출처: 로건 G. 키퍼, 앤드류 R. 팔코프스키, 테일러 D. 스파크스,재료 과학 및 공학부, 유타 대학교, 솔트레이크시티, UT
전기 도금은 전극에 얇은 코팅을 형성할 수 있도록 용존 금속 양이온을 줄이기 위해 전류를 사용하는 공정입니다. 다른 박막 증착 기법은 화학 증기 증착 (CVD), 스핀 코팅, 딥 코팅 및 스퍼터 증착을 포함한다. CVD는 증착할 요소의 가스 상 전구체를 사용합니다. 스핀 코팅은 액체 전구체 원심분리기를 원심분리로 퍼시다. 딥 코팅은 스핀 코팅과 유사하지만 액체 전구체를 회전하는 대신 기판이 완전히 침수됩니다. 스퍼터링은 플라즈마를 사용하여 대상에서 원하는 물질을 제거한 다음 기판을 플레이트합니다. CVD 또는 스퍼터링과 같은 기술은 매우 높은 품질의 필름을 생산하지만 이러한 기술은 일반적으로 진공 분위기와 작은 샘플 크기를 필요로하기 때문에 매우 느리고 높은 비용으로 그렇게합니다. 전극은 비용을 크게 줄이고 확장성을 증가진공 대기에 의존하지 않습니다. 또한, 상대적으로 높은 증착 속도는 전극으로 달성될 수 있다.
이 실험에서 설명한 대로 전극은 체적의 최소한의 변화 내에서 재료 표면 특성을 수정할 수 있게 합니다. 전극 과정에서 전류는 양극과 음극 사이의 전해질 용액을 통과합니다. 전해질 용액의 양전하 양이온은 음전하 음극에 끌리고 예치됩니다. 일단 증착되면, 층의 원자는 감소 과정을 통해 전자를 얻는다.
전해질 용액에서 음극과 양극 사이에 적용되는 전류의 속도와 양에 ?...
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