Войдите в систему

Электрораспылительная Отложение равномерной толщины Ge

8.4K Views

08:38 min

August 19th, 2016

DOI :

10.3791/54379-v

August 19th, 2016


Смотреть дополнительные видео

114

Главы в этом видео

0:05

Title

0:45

Setting Up the Deposition Process

1:48

Electrospray Depostion of Chalcogenide Films

2:58

Characterization of Residual Solvent Removal of the Chalcogenide Films

4:10

Measurement of Chalcogenide Film Thickness

6:50

Results: Evaluation of Electrosprayed Film Properties

7:58

Conclusion

Похожие видео

article

10:52

Формирование толстых плотных железоиттриевого гранатов Использование аэрозоля осаждения

9.1K Views

article

08:14

Улучшение качества Гетеропереход в Cu

12.1K Views

article

07:37

Подготовка МАКРОПОРИСТОГО эпитаксиальных пленок кварца на кремнии химический раствор осаждения

9.2K Views

article

09:45

Эпитаксиального роста перовскита титаната стронция на германии с помощью атомного слоя осаждения

12.3K Views

article

06:30

Изготовление ультра-тонкий цветной фильмов с сильно поглощающих средств массовой информации с использованием угла наклона осаждения

8.2K Views

article

09:41

Массовая и тонкопленочных синтез композиционно вариант энтропия стабилизированный оксидов

9.4K Views

article

06:57

Теоретический расчет и экспериментальная проверка уменьшения дислокаций в эпитаксиальных слоях германия с полуцилиндрическими пустотами на кремнии

2.1K Views

article

08:23

Ниобий оксида Пленки депонируется реактивного распыления: Влияние скорости кислородного потока

7.3K Views

article

07:23

Изготовление тонкопленочных серебряных/серебряных хлоридных электродов с мелко контролируемым однослойным хлоридом серебра

13.9K Views

article

11:34

Эпитаксисные наноструктурированные α-кварцевые фильмы о кремнии: от материала к новым устройствам

5.3K Views

JoVE Logo

Исследования

Образование

О JoVE

Авторские права © 2025 MyJoVE Corporation. Все права защищены