Les auteurs tiennent à remercier M. Leboeuf pour l&#39;aide à l&#39;AFM Lee, W. pour le maître d&#39;aluminium par anodisation texturée et de l&#39;Office fédéral suisse de l&#39;énergie et le Fonds national suisse pour le financement. Une partie de ce travail a été réalisé dans le cadre du projet FP7 «Fast Track» financé par la CE dans le cadre convention de subvention sans 283501.

1. Fabrication de moules Nous utilisons notre configuration nanoimpression maison construite pour la fabrication du moule négatif Réf suivante. 6, mais aucune configuration nanoimpression solution fonctionne très bien. Alternativement, un fonctionnalisé polydiméthylsiloxane (PDMS) moule peuvent également fonctionner. <ol><li> Fabriquer ou acheter un maître approprié portant le motif nanométrique à transférer. En principe, n&#39;importe quel maître approprié pour nano-impression va faire le travail. Nous utilisons une couche texturée ZnO sur une feuille de verre (Schott, AF32 éco, 41 mm x 41 mm x 0,5 mm) déposé comme décrit dans 3.1 comme une structure maître pour illustrer la méthode. </li><li> Appliquer une couche anti-adhérence sur la structure maître comme décrit en 2. </li><li> Nettoyer un polyéthylène naphtalate (PEN) feuille (Goodfellow, 82 mm x 41 mm x 0,125 mm) dans un bain d&#39;acétone à ultrasons pendant 2 min suivi par un bain à ultrasons pour l&#39;isopropanol 2 min plus. Rincer une fois de plus avec de l&#39;isopropanol et sécher avec de l&#39;azote. </li><li> Dépôt par pulvérisation cathodique d&#39;une couche d&#39;adhérence Cr (nm 5-10) sur la feuille de PEN. </li><li> Spin-manteau de la résine durcissable aux UV (Microresist, Ormocer, 1-2 ml) sur la feuille de PEN à 5000 rpm pour obtenir une couverture uniforme. </li><li> Effectuer une pré-cuisson pendant 5 min sur une plaque chauffante à 80 ° C pour évaporer le solvant, d&#39;améliorer l&#39;uniformité du film et l&#39;adhérence à la feuille de PEN. </li><li> Utilisez la configuration de votre nano-impression pour tamponner le motif maître dans la résine à séchage UV. Bien que non obligatoire, on effectue d&#39;emboutissage sous vide, pour empêcher des inclusions de bulles par l&#39;application d&#39;une pression homogène de 1 bar sur une membrane de silicone souple. Dans notre configuration, la membrane en silicone sépare la chambre à vide en deux sous-compartiments. La pression est générée par ventilation du compartiment supérieur, tandis que le compartiment inférieur reste sous vide. Ventilation pousse la membrane flexible vers le bas initier l&#39;emboutissage. </li><li> Exposer la résine à la lumière UV pour provoquer la réaction de réticulation de la résine. Nous appliquons une lumière modéréeintensité de 1,4 mW / cm 2 à une longueur d&#39;onde de 365 nm fournis par plusieurs LED. Temps d&#39;exposition à travers la feuille PEN est généralement de 15-20 min. </li><li> Démouler délicatement manuellement peler le moule de la structure maître. </li><li> Comme la résine peut subir un léger retrait lors du dépôt du matériau fonctionnel, ce qui peut conduire à l&#39;inflammation spontanée peeling, nous effectuons une post-cuisson douce thermique à 150 ° C pendant 6-8 heures dans un four à atmosphère ambiante avant traitement ultérieur. </li></ol> 2. Couche anti-adhérence Pour réussir le démoulage, la couche anti-adhérence doit être adaptée aux matériaux et la rugosité modèle. Modèles généralement difficiles exigent de faibles coefficients de friction. Faibles coefficients de collage sur les schémas lisses peuvent conduire à une desquamation de la matière fonctionnelle du moule. Des coefficients de collage sur les modèles bruts peut entraîner le pelage de la résine de la feuille lors de la fabrication du moule PEN que la adherenCE de la résine pour le maître est plus forte. <ol><li> Enduire le moule (ou maître) avec une couche de chrome pulvérisé (5-10 nm) pour favoriser l&#39;adhérence de l&#39;agent anti-adhérence. Pour les modèles lisses nous laissons tomber cette étape. Dans certains cas, la couche de chrome peut empêcher l&#39;agent anti-adhérence de graver la structure maître. </li><li> Appliquez une petite goutte d&#39;agent anti-adhérent (Sigma-Aldrich, (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluoroctyl)-trichlorosilane) sur une lame de verre. Mettre la lame de verre et le moule dans une chambre à vide et la pompe vers le bas. L&#39;agent anti-adhérence s&#39;évapore et déposer une monocouche moléculaire sur le moule. </li><li> Ancrer l&#39;agent anti-adhérence par un recuit pendant 1-2 heures à 80 ° C. </li></ol> 3. Dépôt de matière Nous démontrons ici trois techniques de dépôt appropriés pour le dépôt de matériau pour illustrer la polyvalence de nanomoulding. Autres techniques de dépôt peut également être appliquée. Le troisième exemple décrit la fabrication d&#39;un complet film mince de silicium des cellules solaires. <ol><li> Dépôt de vapeur chimique (CVD) d&#39;oxyde de zinc: Mettre le moule sur la plaque de chauffage du réacteur CVD chauffé à 180 ° C. Utiliser un cadre métallique afin d&#39;éviter la flexion du moule pendant le dépôt de ZnO PEN. Fermez le réacteur, la pompe vers le bas et permettent de thermalisation. Admettre les gaz précurseurs (H 2 O et (C 2 H 5) 2 Zn). En outre on dose des petites quantités de B 2 H 6 pour le dopage. L&#39;épaisseur de la couche de ZnO est proportionnelle à la durée du dépôt. Nous utilisons couche de ZnO épaisseurs typiquement de 1-5 um. Détails sur les paramètres de dépôts typiques peuvent être trouvés dans la référence 7. </li><li> Dépôt physique en phase vapeur (PVD) / pulvérisation d&#39;argent: Mettez le moule dans le système PVD. Refermez le système et de la pompe vers le bas. Admettre du gaz argon processus. Allumez le générateur de courant continu. L&#39;épaisseur de la couche d&#39;Ag est encore proportionnel au temps de dépôt. Nous utilisons couche d&#39;Ag épaisseurs de typiquement 1 um. Un dépôt type pARAMÈTRES sont une pression d&#39;argon de 5.5x10 -3 mbar et une puissance DC configuration spécifique de 250 W produisant une vitesse de dépôt d&#39;environ 45 nm / s. </li><li> Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PE-CVD): Acompte ZnO comme en 3.1). Mettre le moule dans le réacteur PE-CVD chauffé à 200 ° C. Fermez le réacteur, la pompe vers le bas et permettent de thermalisation. Admettre les gaz précurseurs (SiH 4 et de H 2). En outre on dose des petites quantités de B (CH 3) 3, PH 3 pour réaliser le dopage p et de type n respectivement. À augmenter la tension en circuit ouvert des cellules solaires, on utilise aussi de petites quantités de CH 4 et CO 2 pour les couches dopées. Après le dépôt de la broche silicium amorphe pile à l&#39;énergie solaire, nous déposons un backcontact ZnO comme décrit au paragraphe 3.1. </li><li> Éviter de flexion excessive du moule, que la flexion peut provoquer le pelage de la couche déposée. </li></ol> 4. Transfert couche Nous utilisons verrediapositives (s Schott AF32 éco, 41 mm x 41 mm x 0,5 mm) comme substrat final. Mais d&#39;autres substrats, y compris des feuilles de métal ou des feuilles de polymère, pourraient être utilisés alternativement. <ol><li> Nettoyer les lames de verre avec de l&#39;acétone et l&#39;isopropanol et brushing avec de l&#39;azote. </li><li> Spin-couche durcissable aux UV résine (Microresist, Ormocer, 1-2 ml) sur la lame de verre à 5.000 tours par minute. </li><li> Utiliser la configuration de votre nano-impression pour ancrer le moule portant les couches déposées sur le substrat final. Que pour l&#39;estampage, on effectue d&#39;ancrage sous vide par application d&#39;une pression homogène de 1 bar. </li><li> Exposer la résine à la lumière UV pour provoquer la réaction de réticulation. On applique une intensité moyenne de 1,4 mW / cm 2 à une longueur d&#39;onde de 365 nm fournis par plusieurs LED. Temps d&#39;exposition à travers la lame de verre est seulement 1-3 min en raison de la transmission plus élevée aux UV du verre par rapport à PEN. </li><li> Démouler manuellement peler le moule de la lame de verre. </li></ol> 5. Caractérisation échantillon <ol&gt; <li> Utilisez votre favori morphologique, technique électrique ou optique pour caractériser les échantillons nanomoulded. Ici, nous caractérisons nos échantillons nanomoulded utilisant la microscopie électronique à balayage (MEB) et microscopie à force atomique (AFM). </li></ol>

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	<li>Geissler, M., Xia, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Patterning:+Principles+and+Some+New+Developments.">Patterning: Principles and Some New Developments.</a> Advanced Materials. 16 (15), 1249-1269 (2004).</li><li>Guo, L. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanoimprint+Lithography:+Methods+and+Material+Requirements.">Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements.</a> Advanced Materials. 19, 495-513 (2007).</li><li>Ahn, S. H., Guo, L. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Large-Area+Roll-to-Roll+and+Roll-to-Plate+Nanoimprint+Lithography:+A+Step+toward+High-Throughput.">Large-Area Roll-to-Roll and Roll-to-Plate Nanoimprint Lithography: A Step toward High-Throughput.</a> Application of Continuous Nanoimprinting. ACS Nano. 3 (8), 2304-2310 (2009).</li><li>Battaglia, C., Escarr&#233;, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanoimprint+Lithography+for+High-Efficiency+Thin-Film+Silicon+Solar+Cells.">Nanoimprint Lithography for High-Efficiency Thin-Film Silicon Solar Cells.</a> Nano Letters. 11, 661-665 (2011).</li><li>Battaglia, C., Escarr&#233;, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanomoulding+of+Transparent+Zinc+Oxide+Electrodes+for+Efficient+Light+Trapping+in+Solar+Cells.">Nanomoulding of Transparent Zinc Oxide Electrodes for Efficient Light Trapping in Solar Cells.</a> Nature Photonics. 5, 535-538 (2012).</li><li>Escarr&#233;, J., S&#246;derstr&#246;m, K., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=High+Fidelity+Transfer+of+Nanometric+Random+Textures+by+UV+Embossing+for+Thin+Film+Solar+Cells+Applications.">High Fidelity Transfer of Nanometric Random Textures by UV Embossing for Thin Film Solar Cells Applications.</a> Solar Energy Materials &amp; Solar Cells. 95, 881-886 (2011).</li><li>Fa&#255;, S., Feitknecht, L., Schl&#252;chter, R., Kroll, U., Vallat-Sauvain, E., Shah, A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Rough+ZnO+layers+by+LP-CVD+process+and+their+effect+in+improving+performances+of+amorphous+and+microcrystalline+silicon+solar+cells.">Rough ZnO layers by LP-CVD process and their effect in improving performances of amorphous and microcrystalline silicon solar cells.</a> Solar Energy Materials and Solar Cells. 90, 2960-2967 (2006).</li><li>Zhao, X. -. M., Xia, Y., Whitesides, G. M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Fabrication+of+Three-Dimensional+Micro-Structures:+Microtransfer+Molding.">Fabrication of Three-Dimensional Micro-Structures: Microtransfer Molding.</a> Advanced Materials. 8, 837-840 (1996).</li><li>Hampton, M. J., Williams, S. S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=The+Patterning+of+Sub-500+nm+Inorganic+Oxide+Structures.">The Patterning of Sub-500 nm Inorganic Oxide Structures.</a> Advanced Materials. 20, 2667-2673 (2008).</li><li>Bass, J. D., Schaper, C. D., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Transfer+Molding+of+Nanoscale+Oxides+Using+Water-Soluble+Templates.">Transfer Molding of Nanoscale Oxides Using Water-Soluble Templates.</a> ACS Nano. 5 (5), 4065-4072 (2011).</li><li>Escarr&#233;, J., Nicolay, S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanomoulded+front+ZnO+contacts+for+thin+film+silicon+solar+cell+applications.">Nanomoulded front ZnO contacts for thin film silicon solar cell applications.</a> , (2012).</li><li>Sontheimer, T., Rudigier-Voigt, E., Bockmeyer, M., Klimm, C., Schubert-Bischoff, P., Becker, C., Rech, B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Large-area+fabrication+of+equidistant+free-standing+Si+crystals+on+nanoimprinted+glass.">Large-area fabrication of equidistant free-standing Si crystals on nanoimprinted glass.</a> Phys. Status Solidi. RRL. 5, 376-379 (2011).</li></ol>

Aucun conflit d&#39;intérêt déclaré.

Nanomoulding permet le transfert de nanomotifs de matériaux fonctionnels arbitraires. Comparaison des différentes étapes de traitement de la figure 1 et 2 montre la relation étroite entre nanomoulding et nano-impression. La différence majeure entre nanomoulding et nano-impression est l&#39;étape du matériel supplémentaire dépôt dans la figure 2e. Le flux de processus reste est identique. Nanomoulding peut donc être effectuée sur n&#39;importe quelle configur...

Nanopatterning a pris une importance considérable dans de nombreux domaines de la nanotechnologie et les sciences appliquées. Génération de patterns est la première étape et peut être effectuée par les approches descendantes telles que la lithographie par faisceau d&#39;électrons ou approches bottom-up basée sur l&#39;auto-assemblage des méthodes telles que la lithographie nanosphères ou un copolymère séquencé lithographie 1. Aussi important que la génération de modèle est la réplication de schéma. En plus de photolithographie, nano-impression (Figure 1) a émergé comme une alternative prometteuse en particulier approprié pour haut débit de grande surface de motifs nanométriques à faible coût 2-4. Alors que la photolithographie nécessite un masque à motif, nano-impression repose sur une structure préfabriquée maître. Transfert du motif du maître est couramment réalisée dans une matière thermoplastique ou un polymère UV ou thermodurcissable. Cependant, il existe de nombreux cas où il est souhaitable de transférer le motif directement sur un matériau fonctionnel. &lt;p class = &quot;jove_content&quot;&gt; Nous décrivons ici une méthode de réplication basée sur nanomoulding et la couche de transfert (figure 2) que nous avons récemment introduit en Réf. 5 à transférer des motifs nanométriques sur fonctionnels électrodes d&#39;oxyde de zinc. Notre méthode nanomoulding peut être facilement mis en œuvre si une configuration nano-impression est disponible. Nanomoulding offre la possibilité d&#39;être généralisées à de nombreux autres matériaux fonctionnels, des piles de matériaux et dispositifs, même complet, à condition que le matériau du moule est choisi de telle sorte qu&#39;il soit compatible avec le procédé de dépôt de matière (s). A titre d&#39;exemple nous présentons ici nanomoulding des conductrices transparentes d&#39;oxyde de zinc (ZnO) des électrodes déposées par dépôt de vapeur chimique (CVD) qui trouvent leur application pour améliorer piégeage de la lumière dans les cellules solaires 5.

<table border="1"><tbody><tr><td> Nom du réactif </td><td> Entreprise </td><td> Numéro de catalogue </td><td> Commentaires (optionnel) </td></tr><tr><td> Résine nano-impression </td><td> Microresist </td><td> Ormostamp </td><td></td></tr><tr><td> (1H, 1H, 2H, 2H-Perfluoroctyl)-trichlorosilane, l&#39;agent anti-adhérence </td><td> Sigma Aldrich </td><td> 448931-10G </td><td></td></tr><tr><td> Lames de verre </td><td> Schott </td><td> AF32 éco </td><td> 0,5 mm </td></tr><tr><td> Polyéthylène naphtalate (PEN) feuilles </td><td> Goodfellow </td><td> ES361090 </td><td> 0,125 mm </td></tr><tr><td> (C 2 H 5) 2 Zn </td><td> Akzo Nobel </td><td></td><td></td></tr><tr><td> Ag 4N cibles de pulvérisation </td><td> Heraeus </td><td> 81062165 </td><td></td></tr><tr><td> B 2 H 6, SiH 4, H 2, B (CH 3) 3, PH 3, CH 4, CO 2 </td><td> Messer </td><td></td><td></td></tr><tr><td></td><td></td><td></td><td> ÉQUIPEMENT </td></tr><tr><td> Nanoimpression système </td><td> Construction amateur </td><td></td><td></td></tr><tr><td> LP-CVD système </td><td> Construction amateur </td><td></td><td></td></tr><tr><td> PVD système </td><td> Leybold </td><td> Univex 450 B </td><td></td></tr><tr><td> PE-CVD réacteur </td><td> Indeotec </td><td> Octopus I </td><td></td></tr><tr><td> SEM </td><td> JEOL </td><td> JSM-7500 TFE </td><td></td></tr><tr><td> AFM </td><td> Instruments numériques </td><td> Nanoscope 3100 </td><td></td></tr></tbody></table>

nanomoulding of functional materials, a versatile complementary pattern replication method to nanoimprinting

Nous décrivons une technique qui permet nanomoulding faible coût de motifs nanométriques de matériaux fonctionnels, les piles de matériaux et de dispositifs complets. Nanomoulding combinée à transfert de couche permet la réplication des configurations superficielles arbitraires à partir d&#39;une structure maître sur le matériau fonctionnel. Nanomoulding peut être effectuée sur n&#39;importe quelle configuration nano-impression et peut être appliquée à un large éventail de matériaux et de procédés de dépôt. En particulier, nous démontrons la fabrication d&#39;électrodes transparentes motifs d&#39;oxyde de zinc pour les applications légères de piégeage dans les cellules solaires.

<html> La figure 3 résume quelques exemples de structures nanomoulded. Structure de ZnO maître cultivé par CVD sur le verre est montré en (a). La réplique correspondante nanomoulded ZnO est représenté en (d). Comparaison de la hauteur locale (g) et d&#39;angle (j) des histogrammes des images extraites de révéler l&#39;AFM haute fidélité du processus nanomoulding. Des résultats analogues sont indiqués pour un réseau unidimensionnel fabriquée par lithographie d&#39;interférence (b, e, h, k)...

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Nanomoulding of Functional Materials, a Versatile Complementary Pattern Replication Method to Nanoimprinting

Nous décrivons une technique qui permet nanomoulding faible coût de motifs nanométriques de matériaux fonctionnels, les piles de matériaux et de dispositifs complets. Nanomoulding peut être effectuée sur n&#39;importe quelle configuration nano-impression et peut être appliquée à un large éventail de matériaux et de procédés de dépôt.

Nanomoulding de matériaux fonctionnels, une méthode complémentaire de réplication Versatile Modèle de nano-impression

We describe a nanomoulding technique which  allows low-cost nanoscale patterning of functional materials, materials stacks  and full devices. Nanomoulding ...

nanomoulding-functional-materials-versatile-complementary-pattern

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11.6K vues.  Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL). Nous décrivons une technique qui permet nanomoulding faible coût de motifs nanométriques de matériaux fonctionnels, les piles de matériaux et de dispositifs complets. Nanomoulding peut être effectuée sur n'importe quelle configuration nano-impression et peut être appliquée à un large éventail de matériaux et de procédés de dépôt.