우리는 조리법의주의 깊은 검사에, 유익한 토론 Y. 유 M. Hempenius 및 E. 베네 감사, 기술 지원에 대한 그림 1, C. Padberg 및 K. 스 미트의 이미지를 디자인에 대한 M. Vlot. EK 금융 지원을위한 과학 연구에 대한 네덜란드기구 (NWO, TOP 그랜트 700.56.322, 자극과 거대 분자 나노 기술 응답 폴리머)를 인정한다. SDB는 재정적으로 과학 연구에 대한 네덜란드기구 (NWO)에 의해 지원되는 물질에 관한 기초적 연구 재단 (FOM)에 의해 지원되었다.

참고 :도 2는 샘플 제조 절차를 도시한다. 폴리머 브러시는 실리콘으로부터 그래프트되었다 (SI)의 기판 (경로 (a)), 금 - 코팅 된 기판, 및 금 콜로이드 AFM 프로브에서 (100 nm의 금 (b)는 10 nm의 Cr 접착층, 경로를 갖는 실리콘 웨이퍼 상에 증착)로부터 (6 μm의 직경, 경로 (C)) 표면으로는 원자 이동 라디칼 중합 (SI-ATRP) (24)를 시작했다. AFM 측정은 수직 스캐너 및 액체 셀 결합, 저잡음 헤드와 멀티 모드 AFM에서 수행 하였다. 1. 샘플 준비 <ol><li> 기판 준비 <ol><li> 실리콘 표면에 증착 개시제. <ol><li> 클로로포름, 다음 피라냐 용액으로 실리콘 기판을 청소,이어서, 정제수, 에탄올 및 클로로포름으로 헹군다. </li><li> 50 μL (3- 아미노 프로필) 트리에 톡시 실란을 포함하는 유리 병 주위 건조기로 건조 기판을 놓습니다. </li><li> 데시 케이 터 위트 대피하 로터리 베인 15 분 동안 펌프 및 이후 닫습니다. 증기 증착 / N을 O를 할 수있게합니다. </li><li> 삼각 플라스크에 40 ml의 톨루엔 (탈기) 40 μL 트리 에틸 아민 용액을 준비합니다. </li><li> 플라스크에 기판을 놓고 적가 40 μL 2- 브로 모 -2- 메틸 프로피를 추가합니다. 형성된 용액에 염 결정의 석출을 방지하기 위해, 용액 중에 기판을 유지. </li><li> 4 시간 동안 솔루션을 저어. </li><li> 톨루엔과 에탄올로 기판을 씻어. 다음으로, 중합 바이알에 기판을 배치합니다. </li></ol></li><li> 골드 표면에 기자 증착 <ol><li> 단층 용액을 제조 20 ㎖의 2- 브로 모 -2- 메틸 - 프로피온산 11- [11- (2- 브로 모 -2- 메틸 - 프로피 오닐) -undecyldisulfanyl] -undecyl 에스테르를 용해 클로로포름 (0.2 mm)를 탈기. </li><li> 전송 약 이전에 아르곤로 플러싱 작은 유리 병에 1.5 ml의 단층 솔루션입니다. </li><li> 클로로포름으로 금 코팅 된 기판을 청소하고피라 솔루션입니다. 이어서, 정제수, 에탄올 및 클로로포름으로 헹군다. </li><li> 단층 용액에 세척 된 기판을 담그고 플라스크를 닫습니다. 스토어 O / N 어두운 곳에서. </li><li> 용매에 침적에 의해 에탄올 및 클로로포름으로 금 콜로이드 프로브를 청소합니다. </li><li> 단층 함유 용액을 바이알에 프로브를 담궈 콜로이드. 단단히 닫고 어두운 곳의 O / N에 보관합니다. </li><li> 솔루션에서 기판을 제거 클로로포름과 에탄올로 씻는다. 다음에, 중합 개시제 플라스크에 코팅 기판을 이송. </li><li> , 단층 솔루션에서 콜로이드 프로브를 제거 클로로포름과 에탄올로 씻는다. 다음에, 중합 바이알에 개별적으로 각 프로브를 전송. </li></ol></li></ol></li><li> 중합 <ol><li> PMMA의 SI-ATRP <ol><li> 의 Arg와 기자 덮인 기판 (Si 및 금 모두) 및 콜로이드 프로브를 포함, 플라스크 및 튜브를 제거30 분에. </li><li> ATRP 배지에서 10g의 메틸 메타 크릴 레이트 (MMA)를 용해시키고 (비 10 ㎖의 메탄올 / 물 혼합물을 5 : 1)로 2 시간 동안 용액을 가스를 제거. </li><li> (3) 진공 아르곤 백필 싸이클로 145 MG의 CuBr 및 자기 교반 막대가 구비 된 플라스크에 320 mg의 2,2- 피리딘 및 deoxygenize 추가. </li><li> (구리 함유)을 플라스크 내에 탈기 단량체 용액을 전송하고 맑은 용액이 갈색이 관찰 될 때까지 또 다른 15 분 동안 교반한다. </li><li> 2 ML의 주사기에 바늘을 부착하고 바늘과 아르곤과 주사기 2 ~ 3 번 세척. </li><li> 콜로이드 프로브를 함유하는 주사기와 1ml의 중합 용액을 취하여 소규모 반응 바이알에 콘텐츠를 삽입. </li><li> 평면 기판을 포함하는, 주사기와 잔류 액을 취하여, 반응 바이알에 콘텐츠를 삽입. 완전히 각각의 샘플을 잠수 할 수있는 충분한 솔루션을 추가합니다. </li><li> 실온에서 40 시간 동안 중합을 실시한다. </li><li> 다시중합 용액으로부터 샘플을 이동하고 다수의 사이클 에탄올, 클로로포름으로 세척 하였다. 시료의 착색은 브러시의 존재를 나타낸다. </li><li> 마지막으로, 질소 기류 하에서 기판을 건조. </li><li> 질소 상자에서 평평한 기판을 유지합니다. 스토어 폴리머 브러시는 톨루엔에 프로브를 수정했습니다. </li></ol></li><li> PNIPAM 10 SI-ATRP <ol><li> 30 분 동안 아르곤으로 개시제 덮인 기판 (Si 및 금 모두) 및 콜로이드 프로브를 함유하는 플라스크를 퍼지 튜브. </li><li> ATRP 매체 (1.6 ml의 물 18 ㎖의 메탄올)에 5.6 g의 N의 -isopropylacrylamide 320 μL의 PMDETA를 용해시키고, 2 시간 동안 솔루션을 가스를 제거. </li><li> 자기 교반 막대를 구비 한 플라스크에 CuBr 76 mg을 추가하고, 3 진공 아르곤 백필 싸이클로 deoxygenize. </li><li> 구리가 들어있는 플라스크에 탈기 단량체 용액을 전송합니다. 녹색의 맑은 용액이 관찰 될 때까지 또 다른 15 분 동안 교반한다. </리&gt; <li> 2 ML의 주사기에 바늘을 부착하고 바늘과 아르곤과 주사기 2 ~ 3 번 세척. </li><li> 콜로이드 프로브를 함유하는 주사기와 1ml의 중합 용액을 취하여 소규모 반응 바이알에 콘텐츠를 삽입. 모든 프로브에 대해 반복합니다. </li><li> 평면 기판을 포함하는, 주사기와 잔류 액을 인출하고, 반응 플라스크에 콘텐츠를 삽입. 완전히 각각의 샘플을 잠수 할 수있는 충분한 솔루션을 추가합니다. </li><li> RT에서 2 시간 동안 중합을 실시한다. </li><li> 중합 용액에서 샘플을 제거하고 여러 사이클을 통해 에탄올과 물로 씻는다. 샘플 나타나는 색상은 브러시의 존재를 나타낸다. </li><li> 0.1 M EDTA 용액에 시료를 담그고 솔루션 O에 보관 / N 모든 구리를 제거합니다. 정제 된 물과 에탄올로 세척 할 것. </li><li> 질소 상자에서 평평한 기판을 유지합니다. 정제 된 물에 PNIPAM 브러시 수정 프로브를 저장합니다. </li></ol></li></ol></li><li> 브러시 특성은, 푸리에 변환 적외선 (그림 3) 참고 : Si 기판에 고분자 브러쉬 골드 기판 및 전송 FTIR 모드에 고분자 브러쉬를 사용하여 방목 각도 FTIR 모드. 신중하게 모든 샘플을 건조시킵니다. 모든 물과 용매의 오염은 검출기의 심각한 손상을 줄 수 있습니다. <ol><li> 제조업체가 제공 한 설명서에 따라 장비를 시작합니다. </li><li> 샘플 측정을위한 다음 매개 변수를 설정 : 900 3,700cm 사이의 범위 -1 각 측정에 4cm -1 평균 32 스캔 해상도. </li><li> , 시료 전처리에 사용되는 프로토콜에 따라 빈 기판을 청소 조심스럽게 건조 및 측정 챔버에 배치합니다. </li><li> 4 시간 동안 진공을 적용합니다. 다음으로, 배경 스캔을 기록합니다. </li><li> 빈 샘플을 제거하고 시료 챔버에서 건조 폴리머 브러시 코팅 샘플을 배치합니다. </li><li> SAMPL에 진공을 적용E 실 5 시간 동안 주사 샘플마다 30 분을 기록한다. </li><li> 폴리머 브러시의 화학 성분을 확인하기 위해 스펙트럼의 모든 피크를 식별합니다. (만 직선 기준으로 검사를 분석 할 수 있습니다.) </li></ol></li></ol> 2. AFM 측정 <ol><li> 폴리머의 과잉을 제거하고 건조 용매로 씻어, 바늘로 조심스럽게 PMMA 브러시 커버 기판을 스크래치. </li><li> AFM 악기로 샘플을 마운트하고 액체 셀에 프로브를 탑재합니다. </li><li> 캔틸레버의 끝 부분에있는 레이저를 맞 춥니 다. </li><li> 카메라의 사용으로, 스크래치 위의 팁을 맞 춥니 다. </li><li> 접근과 팁을 결합하기 전에, 스캔 크기 0 nm의를 설정합니다. 다음에, 표면에 결합 팁. </li><li> &#39;램프 모드&#39;로 이동하고 힘 거리 곡선을 통해 편향 감도를 결정합니다. 소프트웨어 및 비틀림 스프링 정수 O에서 구현 &#39;열적 튜닝&#39;를 이용하여 통상의 스프링 정수를 보정바그너 등의 방법을 사용하여 칸틸 레버 (F). (25) <ol><li> 소프트웨어 (6.25 메가 헤르츠)의 고속 데​​이터 캡처를 사용하여 2 초 동안 공기 중에서 캔틸레버의 비틀림 열잡음 캡처. </li><li> 푸리에 변환하여 전력 스펙트럼 밀도 (V 2 / Hz로)로 변환 열잡음. </li><li> 기본적인 공진 및 전력 스펙트럼 밀도에 공진 피크와 기준선 잡음 포함한 단순 조화 진동자 대한 식 (당량. 참고 문헌 2. 25)를 사용하여 공기 중에서 캔틸레버의 품질 계수를 결정한다. </li><li> Sader (26)의 방법을 이용하여 단계 2.6.3에서 결정된 캔틸레버의 면내 치수 (길이 및 폭), 밀도 및 주변 매질 (공기)의 점도 및 품질 계수 및 공진 주파수를 이용하여 비틀림 스프링 상수를 계산한다. 참고 : www.ampc.ms.unimelb.edu.au/afm/calibration.html : 우리는 존 Sader의 웹 사이트에서 제공하는 도구를 사용했다. </li><li> 칼슘당량을 사용하는 캔틸레버의 비틀림 각도 편향 감도 lculate. 6 참조 7. 25. </li><li> 콜로이드 크기, 캔틸레버와 당량의 두께를 사​​용하여 횡 방향 스프링 상수 및 편향 감도에 비틀림 스프링 상수 및 편향 감도 변환. 참조 8. 25. 주 : 검출기 신호 이제 통해 강제로 변환 할 수있다 : 힘 [N]를 횡 방향 스프링 정수 [N에 /에서 m] *를 = 횡 편향 감도 [m / V] * 검출기 신호 [V]. </li></ol></li><li> 편향 가능한 최저 설정치에 스크래치에 브러시 촬상하여 드라이 브러쉬의 브러쉬의 높이를 측정한다. 캡처 된 이미지의 선 검사에서 브러시 높이를 결정합니다. </li><li> 부드럽게 주사기 표면에 적용하여 아세토 페논에 브러시 용매화물. 참고 : 용매가 증발로 샘플 변화의 색상입니다. 이 건조 공정에 따라 가능하다. </li><li> AFM에 샘플을 탑재합니다. 에 수직 레이저 신호를 맞 춥니 다-1.0 V. 0 V에 편향 설정 값을 설정하고 캔틸레버 표면을 참여. 주 : 표면과 접촉하는 캔틸레버를 지참 후, 아세토 페논은 팁과 표면 사이의 모세관을 만드는 다리 콜로이드에 브러시로 이동한다. </li><li> 40 μm의 스캔 크기를 설정 한에 느린 스캔 축과 설정 이미지의 화면 비율을 사용하지 않도록 : 4. 높이와 마찰 채널 화상 (추적과 귀선 ​​둘 다)를 기록한다. </li><li> 이미지가 캡처 될 때 캔틸레버를 철회. </li><li> PNIPAM 브러시를 용매화물에, PNIPAM 브러시 덮인 표면에 물 한 방울을 적용합니다. </li><li> 혼합 할 수없는 시스템을 만들 매화 PNIPAM 표면에 의해 PMMA 표면을 대체 신속하게 머리를 들어 올리고. 콜로이드 프로브의 PMMA 브러시에서 아세토 페논의 증발을 방지하기 위해 표면을 교환 할 때 빨리해야합니다. </li><li> 이전과 동일한 매개 변수를 사용하여 팁과 표면 및 기록 이미지를 작동시킵니다. </li></ol>

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J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Transient+forces+in+flowing+soft+matter.">Transient forces in flowing soft matter.</a> Soft Matter. 5, 4401-4411 (2009).</li><li>Chen, M., Briscoe, W. H., Armes, S. P., Klein, J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Lubrication+at+Physiological+Pressures+by+Polyzwitterionic+Brushes.">Lubrication at Physiological Pressures by Polyzwitterionic Brushes.</a> Science. 323, 1698-1701 (2009).</li></ol>

The authors have nothing to disclose.

제시된 결과는 마찰 개별적 매화 브러쉬 혼화 시스템 강하게 용 매화 같은 브러쉬 두 혼화 기존 시스템에 비해 감소되는 것을 보여준다. 두 브러쉬의 다른 용매의 바람직한 흡광도를 제거 맞물 리도록에서 브러쉬 및 폴리머 브러시 마찰 마모 및 소비의 결과 주요 소스를 방지 할 수 있습니다. 제시된 방법에 따라서 마찰 브러시 특정 상호 작용 (27)에 의해 결정될 것이다 소수성 브러시, 건조한 친수성에 슬라이딩 근본적으로 다르다. 사실, 용매의 PNIPAM (붕괴 높이 166 ㎚)에 PMMA 전단에, 우리는 마찰이 50 % 높았다 PMMA (붕괴 높이 236m)에 PMMA를 건조에 비해 것을 발견했다. 이미 &#39;프로토콜&#39;섹션의 노트에 곧 지적한 바와 같이, 수행하는 동안 명심해야 할 중요한 점 몇 가지가 있습니다이러한 특정 실험은 첫째, 아세토 페논 더 나은 용매 물보다 PNIPAM입니다. 따라서, 치료는 아세토 페논은 많은 양의 물을 PNIPAM 브러시를 적시하여 PNIPAM 브러시를 입력하지 않도록주의해야한다. 아세토 페논과 물이 혼합되지 않기 때문에, 아세토 페논 이제 PNIPAM 브러시를 입력하지 않습니다. 그것은 우리가 아세토 페논 완전히 우리의 시스템을 담 그거나, 대신 혼합 시스템에 대한 아세토 페논 모세관을 작성하지 않은 이유입니다. 완전 침수에 대한 또 다른 이유는 우리는 콜로이드와 캔틸레버의 스톡 드래그를 측정하도록 너무 강한 유체 역학에 완전히 담가 결과. 둘째, AFM 실험에서 정상 비틀림 스프링 상수가 결합된다. 낮은 일반 스프링 상수와 캔틸레버 반대의 경우도 마찬가지 상대적으로 낮은 비틀림 스프링 상수 및있을 것이다. 이것은 가장 낮은 측정 마찰 계수&gt; (10) -3를 제한합니다. 따라서, MIS의 전체 마찰 감소, 마찰을 측정하기 위하여cible 시스템은 높아야한다. 이것은 긴 고밀도 브러쉬 통상적 100m / sec의 상대적으로 높은 전단 속도를 사용함으로써 달성된다. 더욱이, 브러쉬 사이 모세관은 마찰력을 증가시킨다. 우리는 200 kPa로의 수직 응력 하에서 예상 μ = 0.003, 혼화 시스템 (22)에 대해, 낮은 마찰 계수를 측정 하였다. 같은 실험 조건을 사용하여, 우리는 μ 발견 = 0.15 혼합 시스템. 실험은 통제 된 실험실 환경에서 수행하고 있고 산업에서 사용되는 표면이 제시된 실험에서 사용 된 것과 같은 이상적되지 않습니다. 대부분의 표면은 불균일 한 조도 분포를 다른 모양 및 크기의 28 때문에 많은 요철이있다. 두 브러쉬 베어링 돌기의 충돌 과정에서 마찰은 다른 소비 채널 29에서 구성되어있다. 이러한 interdigita 같은 정상 상태로 다음 소산 메커니즘,기 및 용매 유동 인해 중합체 및 용매의 느린 완화 시간에 모양 (30)의 히스테리시스 효과가있을 것이다. 게다가, 모세 혈관 형성과 파괴된다. 전통적으로 사용 된 혼화 브러시 시스템에서, 과도 맞물 31까지 형태와 모세관 히스테리시스를 증폭한다. 여기에 제시된 혼합되지 않는 시스템으로 과도 맞물 너무 제거된다. 또한, 모세관 히스테리시스 두 비혼 화성 용매의인가에 의해 회피 될 수있다. 따라서, 또한 일반적인 거친 표면, 마찰 및 마모 섞이지 브러시 시스템 (22)을 사용하여 감소합니다. 남아 마찰의 주요 소스는 브러시 변형이다. 표면 중 하나 상에 내재 저 마찰 32 알려져있다 polyzwitterionic 중합체, 정박 후자를 최소화 할 수있다. 이러한 시스템에서 용매 삼투압 높은 정상 부하에서 약간 변형 브러시 높은 결과 만들어진이다. 비혼 화성 브러쉬 시스템의 제시된 방법은 낮은 마찰이 바람직한 거의 모든 시스템에 적용될 수있다. 또한 높은 압력 아래 방법 기능. 그러나, 용품은 RT 주위 온도가 유지되는 것을주의해야한다. 높은 온도는 접촉 결과적으로 높은 마찰에서 액체 흐름의 원인이됩니다 폴리머를 손상. 잠재적 응용의 예 : 주사기 피스톤 시스템, 액슬 베어링과 힌지.

완벽한 윤활제는 마찰을 줄이고 정상적인 부하가 높은 경우에도 상대 운동에 고체 착용. 이를 달성하기 위해, 윤활제를 슬라​​이딩하고 안정 동안 접촉을 유지한다. 그러나 긍정적 정상 부하 간단 저점도 액체들이 빠르게 접촉 영역에서 압착 및 더 높은 점성 오일은 결국 방출된다. 그러나 생물학적 접점은, 예를 들면, 인간의 관절에서도 항상 저점도 유체로 윤활 유지. 자연은 고체 표면에 부착 한 당 사슬을 사용하여 이러한 효율적인 윤활을 실현한다. 친수성 당 사슬은 상압 용제 (2)의 삼투압을 초과하지 않는 한 연락처에 수성 액체를 유지한다. 따라서, 많은 노력 소위 폴리머 브러시 3-12 고체 표면을 형성하는 중합체에 그 래프팅함으로써 생물학적 윤활제를 흉내 지향되었다. 때 두 개의 반대 폴리머브러시가 접촉 한쪽 중합체 쇄 세그먼트는 반대측 브러시 쇄 세그먼트들로 이동할 수있다. 이 효과는 13 맞물라고합니다. 브러쉬가 상대적으로 슬라이딩 동작에있을 때, 인터 디지 마모 (14)와 마찰 15-17의 주요 원천입니다. 사실, 최근에, 폴리머 브러시 슬라이딩 마찰 속도의 관계는 (18)를 유도하고있다. 이러한 확장 법은 맞물과 그에 따른 스트레칭과 슬라이딩에 폴리머 굽힘을 기반으로합니다. 주요 특성은 표면 힘 장치 실험 (19)의 결과에 동의 및 분자 역학 (MD)의 20 대한 모의. 후자의 오버랩의 정도를 직접 정량화 할 수있다. 또한, 고분자 전해질 브러쉬 간의 중첩이 전기장 (21)을인가함으로써 동조 될 수있는 것으로 나타났다. 인터 디지 이러한 시스템에서, 마찰과 마모를 회피 할 수 있으면 따라서 significan 것TLY 감소. 최근 출판 (22)에서는, 두 비혼 화성 매화 폴리머 브러시 시스템은 브러쉬 사이의 중첩을 방지 MD 시뮬레이션을 통해 보여준다. 또한, 상기 브러시 슬라이딩에, 우리가 우리의 원자 힘 현미경 (AFM) 측정과 매우 잘 일치에서는 전통적인 혼화 브러시 시스템에 비해, 2 차의 크기에 의해 마찰력 감소를 알았다. 여기서 우리는 심판의 AFM 실험을 설정하는 방법을 자세히 설명합니다. 22. 기본 원리는도 1에 스케치된다. 두 반대면, 두 개의 다른 브러쉬 자신 바람직한 용매로 용 매화 각각 필요하다. 이 구성에서 각 브러쉬는 자신의 용매에 남아 있습니다. 따라서, 하나의 브러시에서 폴리머 세그먼트는 다른 브러시에 침투하지 않습니다. 폴리 메틸 메타 크릴 레이트 (PMMA)는 AFM 프로브 콜로이드로부터 그래프트되고 브러시 페논 의해 용해되었다. 평면 폴리 (N의 -isopropylacrylamide) (PNIPAM)는 이식 물에 용해된다. 전통적인 혼합 시스템에 본 시스템을 비교하기 위해, 아세토 페논에 매화 PMMA 브러시가 부착 된 제 2 플랫 반대면된다. PNIPAM에서 PMMA의 혼화 시스템 슬라이딩시 마찰력 측정 된 PMMA가 PMMA에의 혼화 시스템 마찰 대략 1 %이다. 이들 특정 브러쉬 시스템의 사용은 단지 하나의 예임을 유의. 제시된 방법은 제네릭 인해 다른 브러쉬에서 용매의 바람직한 흡수하기 위해 노력하고 있습니다. 따라서, 더 많은 종류의 브러쉬는 한 선택된 용매에서 두 브러쉬 믹스 드로서 적용될 것으로 예상된다. 효과는 추가 미끄러운 유체 온 유체 슬라이딩 22,23 인터페이스를 생성되도록 (페논 및 물과 같은) 두 개의 비 혼합 용매를 사용하여 증폭된다.

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0" width="974">
	<tbody>
		<tr height="42">
			<td height="42" style="height:42px;width:241px;">Name of Material/ Equipment</td>
			<td style="width:108px;">Company</td>
			<td style="width:105px;">Catalog Number</td>
			<td style="width:520px;">Comments/Description</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:241px;"></td>
			<td style="width:108px;"></td>
			<td style="width:105px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Methyl methacrylate</td>
			<td style="width:108px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td>M55909&#160;</td>
			<td>Monomer for PMMA synthesis, cleaned by pressing through a basic alumina column</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">3-aminopropyl)triethoxysilane</td>
			<td style="width:108px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td>440140</td>
			<td>vapor deposited silane monolayer</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:241px;">triethylamine</td>
			<td style="width:108px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td>T0886</td>
			<td>Reagent for the ATRP initiator moiety coupling.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">2-bromo-2-methylpropionyl</td>
			<td style="width:108px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td>252271</td>
			<td>ATRP initiator moiety.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:241px;">toluene</td>
			<td style="width:108px;">&#160;Biosolve</td>
			<td style="width:105px;">20150501</td>
			<td>Coupling medium for ATRP moiety</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">CuBr</td>
			<td style="width:108px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td>212865</td>
			<td>ATRP catalyst.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">2,2&#8242;-Bipyridyl</td>
			<td style="width:108px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td>14453</td>
			<td>Cu complexing ligand for ATRP of MMA</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">N,N,N&#8242;,N&#8242;&#8242;,N&#8242;&#8242;-Pentamethyldiethylenetriamine</td>
			<td style="width:108px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td>369497</td>
			<td>Cu complexing ligand for ATRP of NIPAM</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">acetic acid 98-100%</td>
			<td style="width:108px;">Merck</td>
			<td>8187551000</td>
			<td>For&#160; cleaning CuBr.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Sulfuric acid</td>
			<td style="width:108px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td>320501</td>
			<td>For the preparation of Piranha solution</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:241px;">Hydrogen peroxide 33%</td>
			<td style="width:108px;">&#160;Merck</td>
			<td style="width:105px;">&#160;1.07210.1000</td>
			<td>For the preparation of Piranha solution</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Ethanol</td>
			<td style="width:108px;">&#160;Merck</td>
			<td style="width:105px;">1.00983.1000</td>
			<td>For cleaning substrates.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Basic aluminum oxide 60&#160;</td>
			<td style="width:108px;">&#160;Merck</td>
			<td style="width:105px;"></td>
			<td>For cleaning monomers.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Chloroform</td>
			<td style="width:108px;">&#160;Biosolve</td>
			<td style="width:105px;">3080501</td>
			<td>For monolayer deposition and substrate cleaning.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:241px;">Methanol</td>
			<td style="width:108px;">&#160;Biosolve</td>
			<td style="width:105px;">13680501</td>
			<td>For polymerization medium.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Acetophenone</td>
			<td style="width:108px;">Acros Organics</td>
			<td>&#160;102410010</td>
			<td>For AFM measurement environment.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">N-isopropyl acrylamide</td>
			<td style="width:108px;">Acros Organics</td>
			<td>412780250</td>
			<td>Monomer for PNIPAM synthesis, recrystallized from toluene/hexane</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Poly(ethylene glycol) methacrylate&#160;</td>
			<td style="width:108px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td>409529</td>
			<td>Monomer for Si-POEGMA synthesis, cleaned by pressing through a basic alumina column.</td>
		</tr>
		<tr height="84">
			<td height="84" style="height:84px;">MilliQ water</td>
			<td style="width:108px;">MilliQ Advantage A 10 purification system&#160;</td>
			<td style="width:105px;"></td>
			<td style="width:520px;">ATRP medium, AFM measurement environment 
			and for substrate cleaning.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;">Silicon substrates&#160;</td>
			<td style="width:108px;"></td>
			<td style="width:105px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:241px;">Gold coated substrates</td>
			<td style="width:108px;"></td>
			<td style="width:105px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:241px;">AFM probe, CP-FM-Au,&#160;</td>
			<td style="width:108px;">SQube</td>
			<td style="width:105px;"></td>
			<td>AFM measurement</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:241px;"></td>
			<td style="width:108px;"></td>
			<td style="width:105px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="42">
			<td height="42" style="height:42px;width:241px;">dithiodiundecane-11,1-diybis[2-bromo-2-methlpropanoate] (DTPR)</td>
			<td style="width:108px;"></td>
			<td style="width:105px;"></td>
			<td style="width:520px;">Initiator, for Si-ATRP on gold surfaces. 
			Synthesized according to Macromolecules, 2000, 33,597.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:241px;"></td>
			<td style="width:108px;"></td>
			<td style="width:105px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="20">
			<td height="20" style="height:20px;">Atomic Frorce Microscope</td>
			<td colspan="2">Bruker Multimode V controller</td>
			<td></td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

preparation and friction force microscopy measurements of immiscible, opposing polymer brushes

매화 폴리머 브러시는 당해 계면에 저 마찰을 유지하면서 이들이 포지티브 정상 부하를 견딜 수 있기 때문에, 고압 접점을 윤활하는 것으로 알려져있다. 그럼에도 불구하고 이러한 시스템으로 인해 대향 브러쉬 맞물 입을에 민감 할 수있다. 최근 공보에서는 기판과 슬라이더 표면을 종료 비혼 화성 폴리머 브러시 시스템을 통해, 각각, 예컨대 맞물 제거 할 수 있음을, 분자 동력학 시뮬레이션 및 원자력 현미경 실험을 통해 보여준다. 결과적으로 감소되고, 콘택트 착용. 또한, 상기 마찰력은 전통적인 혼화 폴리머 브러시 시스템에 비해, 2 차의 크기 이하이다. 새롭게 제안 된 시스템은 따라서 산업의 응용 프로그램에 대한 큰 잠재력을 보유하고있다. 여기서, 방법론이 제시된다 자신 바람직한 용매로 용 매화 개의 각각 다른 브러쉬의 비혼 화성 폴리머 브러시 시스템을 구축 하였다. 페이지를 접목하는 방법을 절차OLY (N의 -isopropylacrylamide) 원 자간 력 현미경 (AFM) 탐침 콜로이드로부터 평탄면과 폴리 메틸 메타 크릴 레이트로부터 (PNIPAM) (PMMA)를 설명한다. PNIPAM는 아세토 페논 물과 PMMA에 용해된다. 마찰력 측정 AFM을 통해,이 시스템은 마찰에 실제로 페논 매화 PMMA에 혼화 PMMA의 시스템에 비해, 2 차의 크기에 의해 감소​​되는 것을 알 수있다.

도 4는 혼화 비혼 화성 폴리머 브러시 시스템 모두 슬라이딩시 대표적인 AFM 동력 트레이스를 도시한다. 마찰력 F는 대칭, 혼화 시스템의 F SYM 슬라이딩 정상 상태에서 마찰력에 의해 정규화된다. 이 실험에 부어 브러시 높이 PMMA를위한 1010 nm의 PNIPAM에 대한 532 nm였다. 힘 트레이스 프로토콜 절에 기재된 절차에 따라도 포착된다. 윈 30의 정상 부하를인가하면서이 실험에서는 표면 앞뒤로이 80㎛ / sec의 속도 v로 이동되었다. 혼합 (왼쪽 패널)에 대한 마찰력과 섞이지 (오른쪽 패널) 브러시 시스템의 차이는 명확하게 관찰 할 수있다. 왼쪽 패널에서 정상 상태의 마찰력은 오른쪽 패널에서 정상 상태의 마찰력보다 90X 높다. 혼화 시스템에 대한 측정 된 마찰력 마찰력 (F)의 측정은 0.5 % 전형적또는 혼합 시스템. 정확한 마찰 감소가 그라프 트 밀도, 중합도, 용매의 양, 및 (약하게) 정상 부하 슬라이딩 속도에 따르지만, 또한 2 차의 크기에 항상 주변이다. 우리는 인자 5 (400 μm의 / 초)에 의해 전술 한 시스템에 대한 슬라이딩 속도를 증가 시키면, 마찰 감소는 2 %로 감소한다. 우리는 (300로 윈) 계수 (10)에 의해 정상 부하를 증가 시키면, 마찰 감소는 3 %로 감소한다. <img alt="그림 1" src="/files/ftp_upload/52285/52285fig1highres.jpg" /> 그림 1. 설정의 도식 스케치. 왼쪽 패널은 같은 고분자가 표면과 콜로이드에서 이식 된 혼합 시스템을 보여줍니다. 브러쉬 하나 상 액체에 용해된다. 오른쪽 패널은 두 개의 서로 다른 고분자 브러쉬의 혼합되지 않는 시스템을 보여줍니다. 각각의 브러시는 선호하는 액체에 용해된다. 전통에서대향 브러쉬 중합체 혼 화성 시스템은 중첩된다. 혼합되지 않는 시스템의 경우, 반대 브러쉬는 마찰을 물리는하지 않고 감소 슬라이딩시 착용하십시오. <img alt="그림 2" src="/files/ftp_upload/52285/52285fig2highres.jpg" width="700px" /> 프로토콜 절에 설명 된대로 샘플 준비 절차의 그림 2. 도식 스케치. 왼쪽에서 오른쪽으로는 기자 증착 및 표면 시작한 원자 이동 라디칼 중합 (ATRP SI)를 통해 브러시 준비의 과정을 보여줍니다. 경로 (A)는 원자 힘 현미경 프로브에 골드 콜로이드에서 이식 금 코팅 된 실리콘 표면과 (C) 브러쉬에서 이식 실리콘 표면에서 이식 브러쉬, (B) 브러쉬를 설명합니다. <a href="https://www.jove.com/files/ftp_upload/52285/52285fig2highres.jpg" target="_blank">알을 보려면 여기를 클릭하십시오</a>이 그림의 arger 버전. <img alt="그림 3" src="/files/ftp_upload/52285/52285fig3highres.jpg" /> PMMA (파란색)과 PNIPAM (녹색) 그림 3. FTIR 스펙트럼은 실리콘 (굵은 선)과 금 (가는 선)에 브러쉬. 데이터는 석류에서 촬영했다. 매트. 심판의. (22) PMMA의 파수 (cm - 1) : 3,050-2,990 (CH 신축 진동), 1730 C = O (이중 결합 신축 진동), 1450 (CH 3 CH 2 변형 진동), 1,260-1,040 (COC 단일 결합 신축 진동 ), 880-960 (COC 단일 결합 변형 진동). 1,730cm에서 - 1 C = O 그룹의 특성 신축 진동 피크는 명백하다 PNIPAM의 파수 (cm-1) : 3289 (NH 대칭 및 비대칭 신축 진동), 3078, 2971, 2933은, 2874 (대칭형, 비대칭 형 CH 스트레칭. -CH 진동 &lt;서브&gt; 2 -), 1635 (C = O 신축 진동), 1535 (II 아미드), 1458 (CH의 비대칭 굽힘 변형), 1386 (CH 대칭 굽힘 변형), 1,366-1,170 (CN 비대칭 신축 진동). 1635 및 1,535cm시 - 아미드 기의 신축 진동 특성 피크 1 명백하다. <img alt="그림 4" src="/files/ftp_upload/52285/52285fig4highres.jpg" width="700px" /> 그림 4. 필터링, &#39;평균과 혼화 (왼쪽)와 혼합 할 (오른쪽) 시스템 슬라이딩에 힘 추적을 부드럽게 (참조에서 조정을. 22). 표면은 1 Hz의 스캔 속도로 앞뒤로 40 μm의에 의해 이동되고 30 윈의 정상 부하.

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Preparation and Friction Force Microscopy Measurements of Immiscible, Opposing Polymer Brushes

The methodology to perform friction force microscopy experiments for contacting brushes is presented: Two polymer brushes that are grafted from (a) substrates and (b) colloidal probes are slid to show that, by using two contacting immiscible brush systems, friction in sliding contacts is reduced compared to miscible brush systems.

고분자 브러쉬를 반대 섞이지의 준비 및 마찰 힘 현미경 측정,

Solvated polymer brushes are well known to lubricate high-pressure contacts, because they can sustain a positive normal load while maintaining low ...

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Engineering

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비디오: Preparation and Friction Force Microscopy Measurements of Immiscible, Opposing Polymer Brushes

Atomic Force Microscopy of Red-Light Photoreceptors Using PeakForce Quantitative Nanomechanical Property Mapping

Atomic force microscopy (AFM) uses a pyramidal tip attached to a cantilever to probe the force response of a surface. The deflections of the tip can be measured to ~10 pN by a laser and sectored detector, which can be converted to image topography. Amplitude modulation or &#8220;tapping mode&#8221; AFM involves the probe making intermittent contact with the surface while oscillating at its resonant frequency to produce an image. Used in conjunction with a fluid cell, tapping-mode AFM enables the imaging of biological macromolecules such as proteins in physiologically relevant conditions. Tapping-mode AFM requires manual tuning of the probe and frequent adjustments of a multitude of scanning parameters which can be challenging for inexperienced users. To obtain high-quality images, these adjustments are the most time consuming.
PeakForce Quantitative Nanomechanical Property Mapping (PF-QNM) produces an image by measuring a force response curve for every point of contact with the sample. With ScanAsyst software, PF-QNM can be automated. This software adjusts the set-point, drive frequency, scan rate, gains, and other important scanning parameters automatically for a given sample. Not only does this process protect both fragile probes and samples, it significantly reduces the time required to obtain high resolution images. PF-QNM is compatible for AFM imaging in fluid; therefore, it has extensive application for imaging biologically relevant materials.
The method presented in this paper describes the application of PF-QNM to obtain images of a bacterial red-light photoreceptor, RpBphP3 (P3), from photosynthetic R. palustris in its light-adapted state. Using this method, individual protein dimers of P3 and aggregates of dimers have been observed on a mica surface in the presence of an imaging buffer. With appropriate adjustments to surface and/or solution concentration, this method may be generally applied to other biologically relevant macromolecules and soft materials.

A method for investigating the structure of a protein photoreceptor using atomic force microscopy (AFM) is described in this paper. PeakForce Quantitative Nanomechanical Property Mapping (PF-QNM) reveals intact protein dimers on a mica surface.

PeakForce 양적 나노 기계 대지 매핑을 사용하여 붉은 빛이 광수의 원자 힘 현미경

Atomic force microscopy (AFM) uses a pyramidal tip attached to a cantilever to probe the force response of a surface. The deflections of the tip can be ...

연구

공학

Electroactive Polymer Nanoparticles Exhibiting Photothermal Properties

A method for the synthesis of electroactive polymers is demonstrated, starting with the synthesis of extended conjugation monomers using a three-step process that finishes with Negishi coupling. Negishi coupling is a cross-coupling process in which a chemical precursor is first lithiated, followed by transmetallation with ZnCl2. The resultant organozinc compound can be coupled to a dibrominated aromatic precursor to give the conjugated monomer. Polymer films can be prepared via electropolymerization of the monomer and characterized using cyclic voltammetry and ultraviolet-visible-near infrared (UV-Vis-NIR) spectroscopy. Nanoparticles (NPs) are prepared via emulsion polymerization of the monomer using a two-surfactant system to yield an aqueous dispersion of the polymer NPs. The NPs are characterized using dynamic light scattering, electron microscopy, and UV-Vis-NIR-spectroscopy. Cytocompatibility of NPs is investigated using the cell viability assay. Finally, the NP suspensions are irradiated with a NIR laser to determine their effectiveness as potential materials for photothermal therapy (PTT).

A protocol is presented for the synthesis and preparation of nanoparticles consisting of electroactive polymers.

전기 활성 고분자 나노 입자 출전 광열 등록

A method for the synthesis of electroactive polymers is demonstrated, starting with the synthesis of extended conjugation monomers using a three-step ...

Sub-nanometer Resolution Imaging with Amplitude-modulation Atomic Force Microscopy in Liquid

Atomic force microscopy (AFM) has become a well-established technique for nanoscale imaging of samples in air and in liquid. Recent studies have shown that when operated in amplitude-modulation (tapping) mode, atomic or molecular-level resolution images can be achieved over a wide range of soft and hard samples in liquid. In these situations, small oscillation amplitudes (SAM-AFM) enhance the resolution by exploiting the solvated liquid at the surface of the sample. Although the technique has been successfully applied across fields as diverse as materials science, biology and biophysics and surface chemistry, obtaining high-resolution images in liquid can still remain challenging for novice users. This is partly due to the large number of variables to control and optimize such as the choice of cantilever, the sample preparation, and the correct manipulation of the imaging parameters. Here, we present a protocol for achieving high-resolution images of hard and soft samples in fluid using SAM-AFM on a commercial instrument. Our goal is to provide a step-by-step practical guide to achieving high-resolution images, including the cleaning and preparation of the apparatus and the sample, the choice of cantilever and optimization of the imaging parameters. For each step, we explain the scientific rationale behind our choices to facilitate the adaptation of the methodology to every user's specific system.

We present a method for achieving sub-nanometer resolution images with amplitude-modulation (tapping mode) atomic force microscopy in liquid. The method is demonstrated on commercial atomic force microscopes. We explain the rationale behind our choices of parameters and suggest strategies for resolution optimization.

액체의 진폭 변조 원자 힘 현미경과 서브 나노 미터 해상도 이미징

Atomic force microscopy (AFM) has become a well-established technique for nanoscale imaging of samples in air and in liquid. Recent studies have shown ...

Fabrication of Polymer Microspheres for Optical Resonator and Laser Applications

This paper describes three methods of preparing fluorescent microspheres comprising &#960;-conjugated or non-conjugated polymers: vapor diffusion, interface precipitation, and mini-emulsion. In all methods, well-defined, micrometer-sized spheres are obtained from a self-assembling process in solution. The vapor diffusion method can result in spheres with the highest sphericity and surface smoothness, yet the types of the polymers able to form these spheres are limited. On the other hand, in the mini-emulsion method, microspheres can be made from various types of polymers, even from highly crystalline polymers with coplanar, &#960;-conjugated backbones. The photoluminescent (PL) properties from single isolated microspheres are unusual: the PL is confined inside the spheres, propagates at the circumference of the spheres via the total internal reflection at the polymer/air interface, and self-interferes to show sharp and periodic resonant PL lines. These resonating modes are so-called "whispering gallery modes" (WGMs). This work demonstrates how to measure WGM PL from single isolated spheres using the micro-photoluminescence (&#181;-PL) technique. In this technique, a focused laser beam irradiates a single microsphere, and the luminescence is detected by a spectrometer. A micromanipulation technique is then used to connect the microspheres one by one and to demonstrate the intersphere PL propagation and color conversion from coupled microspheres upon excitation at the perimeter of one sphere and detection of PL from the other microsphere. These techniques, &#181;-PL and micromanipulation, are useful for experiments on micro-optic application using polymer materials.

Protocols for the synthesis of microspheres from polymers, the manipulation of microspheres, and micro-photoluminescence measurements are presented.

광 공진기 및 레이저 응용을위한 고분자 미소 구의 제조

This paper describes three methods of preparing fluorescent microspheres comprising &#960;-conjugated or non-conjugated polymers: vapor diffusion, ...

Preparation of Janus Particles and Alternating Current Electrokinetic Measurements with a Rapidly Fabricated Indium Tin Oxide Electrode Array

This article provides a simple method to prepare partially or fully coated metallic particles and to perform the rapid fabrication of electrode arrays, which can facilitate electrical experiments in microfluidic devices. Janus particles are asymmetric particles that contain two different surface properties on their two sides. To prepare Janus particles, a monolayer of silica particles is prepared by a drying process. Gold (Au) is deposited on one side of each particle using a sputtering device. The fully coated metallic particles are completed after the second coating process. To analyze the electrical surface properties of Janus particles, alternating current (AC) electrokinetic measurements, such as dielectrophoresis (DEP) and electrorotation (EROT)- which require specifically designed electrode arrays in the experimental device- are performed. However, traditional methods to fabricate electrode arrays, such as the photolithographic technique, require a series of complicated procedures. Here, we introduce a flexible method to fabricate a designed electrode array. An indium tin oxide (ITO) glass is patterned by a fiber laser marking machine (1,064 nm, 20 W, 90 to 120 ns pulse-width, and 20 to 80 kHz pulse repetition frequency) to create a four-phase electrode array. To generate the four-phase electric field, the electrodes are connected to a 2-channel function generator and to two invertors. The phase shift between the adjacent electrodes is set at either 90&#176; (for EROT) or 180&#176; (for DEP). Representative results of AC electrokinetic measurements with a four-phase ITO electrode array are presented.

In this article, a simple method to prepare partially or fully coated metallic particles and to perform AC electrokinetic property measurements with a rapidly fabricated indium tin oxide (ITO) electrode array is demonstrated.

This article provides a simple method to prepare partially or fully coated metallic particles and to perform the rapid fabrication of electrode arrays, ...

Production and Characterization of Vacuum Deposited Organic Light Emitting Diodes

A method for producing simple and efficient thermally-activated delayed fluorescence organic light-emitting diodes (OLEDs) based on guest-host or exciplex donor-acceptor emitters is presented. With a step-by-step procedure, readers will be able to repeat and produce OLED devices based on simple organic emitters. A patterning procedure allowing the creation of personalized indium tin oxide (ITO) shape is shown. This is followed by the evaporation of all layers, encapsulation and characterization of each individual device. The end goal is to present a procedure that will give the opportunity to repeat the information presented in cited publication but also using different compounds and structures in order to prepare efficient OLEDs.

A protocol for the production of simple structured organic light-emitting diodes (OLEDs) is presented.

A method for producing simple and efficient thermally-activated delayed fluorescence organic light-emitting diodes (OLEDs) based on guest-host or exciplex ...

Generating Lap Joints Via Friction Stir Spot Welding on DP780 Steel

Friction stir spot welding (FSSW), a derivative of friction stir welding (FSW), is a solid-state welding technique that was developed in 1991. An industry application was found in the automotive industry in 2003 for the aluminum alloy that was used in the rear doors of automobiles. Friction stir spot welding is mostly used in Al alloys to create lap joints. The benefits of friction stir spot welding include a nearly 80% melting temperature that lowers the thermal deformation welds without splashing compared to resistance spot welding. Friction stir spot welding includes 3 steps: plunging, stirring, and retraction. In the present study, other materials including high strength steel are also used in the friction stir welding method to create joints. DP780, whose traditional welding process involves the use of resistance spot welding, is one of several high strength steel materials used in the automotive industry. In this paper, DP780 was used for friction stir spot welding, and its microstructure and microhardness were measured. The microstructure data showed that there was a fusion zone with fine grain and a heat effect zone with island martensite. The microhardness results indicated that the center zone exhibited a greater degree of hardness compared with the base metal. All data indicated that the friction stir spot welding used in dual phase steel 780 can create a good lap joint. In the future, friction stir spot welding can be used in high-strength steel welding applied in industrial manufacturing processes.

Here, we present a friction stir spot welding (FSSW) protocol on dual phase 780 steel. A tool pin with high-speed rotation generates heat from friction to soften the material, and then, the pin plunges into 2 sheet joints to create the lap joint.

DP780 강철의 마찰 교반 점 용접을 통해 랩 조인트 생성

Friction stir spot welding (FSSW), a derivative of friction stir welding (FSW), is a solid-state welding technique that was developed in 1991. An industry ...

X-ray Beam Induced Current Measurements for Multi-Modal X-ray Microscopy of Solar Cells

X-ray beam induced current (XBIC) measurements allow mapping of&#160;the nanoscale performance of electronic devices such as solar cells. Ideally, XBIC is employed simultaneously with other techniques within a multi-modal X-ray microscopy approach. An example is given herein combining XBIC with X-ray fluorescence to enable point-by-point correlations of the electrical performance with chemical composition. For the highest signal-to-noise ratio in XBIC measurements, lock-in amplification plays a crucial role. By this approach, the X-ray beam is modulated by an optical chopper upstream of the sample. The modulated X-ray beam induced electrical signal is amplified and demodulated to the chopper frequency using a lock-in amplifier. By optimizing low-pass filter settings, modulation frequency, and amplification amplitudes, noise can efficiently be suppressed for the extraction of a clear XBIC signal. A similar setup can be used to measure the X-ray beam induced voltage (XBIV). Beyond standard XBIC/XBIV measurements, XBIC can be measured with bias light or bias voltage applied such that outdoor working conditions of solar cells can be reproduced during in-situ and operando measurements. Ultimately, the multi-modal and multi-dimensional evaluation of electronic devices at the nanoscale enables new insights into the complex dependencies between composition, structure, and performance, which is an important step towards solving the materials&#39; paradigm.

A setup for X-ray beam induced current measurements at synchrotron beamlines is described. It unveils the nanoscale performance of solar cells and extends the suite of techniques for multi-modal X-ray microscopy. From wiring to signal-to-noise optimization, it is shown how to perform state-of-the-art XBIC measurements at a hard X-ray microprobe.

X-ray beam induced current (XBIC) measurements allow mapping of&#160;the nanoscale performance of electronic devices such as solar cells. Ideally, XBIC is ...

Hydrogen Charging of Aluminum using Friction in Water

A new method of hydrogen charging of aluminum was developed by means of a friction in water (FW) procedure. This procedure can easily introduce high amounts of hydrogen into aluminum based on the chemical reaction between water and non-oxide coated aluminum.

In order to introduce high amounts of hydrogen in aluminum and aluminum alloys, a new method of hydrogen charging was developed, called the friction in water procedure.

물 에서 마찰을 사용하여 알루미늄의 수소 충전

A new method of hydrogen charging of aluminum was developed by means of a friction in water (FW) procedure. This procedure can easily introduce high ...

Optimizing Magnetic Force Microscopy Resolution and Sensitivity to Visualize Nanoscale Magnetic Domains

Magnetic force microscopy (MFM) enables mapping local magnetic fields across a sample surface with nanoscale resolution. To perform MFM, an atomic force microscopy (AFM) probe whose tip has been magnetized vertically (i.e., perpendicular to the probe cantilever) is oscillated at a fixed height above the sample surface. The resultant shifts in the oscillation phase or frequency, which are proportional to the magnitude and sign of the vertical magnetic force gradient at each pixel location, are then tracked and mapped. Although the spatial resolution and sensitivity of the technique increases with decreasing lift height above the surface, this seemingly straightforward path to improved MFM images is complicated by considerations such as minimizing topographical artifacts due to shorter range van der Waals forces, increasing the oscillation amplitude to further improve sensitivity, and the presence of surface contaminants (in particular water due to humidity under ambient conditions). In addition, due to the orientation of the probe's magnetic dipole moment, MFM is intrinsically more sensitive to samples with an out-of-plane magnetization vector. Here, high-resolution topographical and magnetic phase images of single and bicomponent nanomagnet artificial spin-ice (ASI) arrays obtained in an inert (argon) atmosphere glovebox with &lt;0.1 ppm O2 and H2O are reported. Optimization of lift height and drive amplitude for high resolution and sensitivity while simultaneously avoiding the introduction of topographical artifacts is discussed, and detection of the stray magnetic fields emanating from either end of the nanoscale bar magnets (~250 nm long and &lt;100 nm wide) aligned in the plane of the ASI sample surface is shown. Likewise, using the example of a Ni-Mn-Ga magnetic shape memory alloy (MSMA), MFM is demonstrated in an inert atmosphere with magnetic phase sensitivity capable of resolving a series of adjacent magnetic domains each ~200 nm wide.

Magnetic force microscopy (MFM) employs a vertically magnetized atomic force microscopy probe to measure sample topography and local magnetic field strength with nanoscale resolution. Optimizing MFM spatial resolution and sensitivity requires balancing decreasing lift height against increasing drive (oscillation) amplitude, and benefits from operating in an inert atmosphere glovebox.

자기력 현미경 분해능과 감도를 최적화하여 나노스케일 자기 도메인 시각화

Magnetic force microscopy (MFM) enables mapping local magnetic fields across a sample surface with nanoscale resolution. To perform MFM, an atomic force ...