Thanks to Michael Knutson, Paul Hamric, Greg Scott, and Chris Landes for helpful discussions and assistance related to the custom inert atmosphere sample holder and assistance in the University of Utah student machine shop. P.C. acknowledges the NSF GRFP under Grant No. 0750758. P.C. acknowledges the University of Utah Nanotechnology Training Fellowship. R.M. acknowledges a NSF CAREER Award No. 1054899 and funding from the USTAR Initiative.

NOT: temiz oda sınıfına 100 koşullar ya da daha iyi altındaki tüm aşağıdaki adımları uygulayın. 1. Numune Hazırlama <ol><li> (: Tehlikeli kimyasallar Dikkat) 2 dakika için tamponlu Oksit Asitli (BOE) çözeltisi (6 kısım% 40 NH 4 F ve 1 kısım% 49 HF) ile 2 &quot;çapında silikon gofret temizleyin. Yüzeyde herhangi bir organik veya kirleri çıkarmak için bu aşındırma zamanı seçin. Yaklaşık 5 dakika süre ile deiyonize (Di) su ile durulayın. Kuru N 2 kuru gofret. NOT: HF kullanırken yalnız işe asla. Her zaman dökülmeleri durumunda yüz kalkanı ve kişisel koruyucu ekipman (KKE) ile göz koruması giyer. Aşındırma yapılır laboratuar kullanımı ve HF atık taşıma için Mesaj kurallar. NOT: elektrokimyasal kilitleme içindir 1,2-1,7 adımları. Fesih yoluyla kilitleme performans ise 2. Adıma geçin. </li><li> Çalışma elektrodu yatıp temiz 2 &quot;çap Silic üzerine Platin (Pt) 100 nm fışkırmasınagofret. </li><li> Platin ince film gravür önce, önceki kuru asitle yıkama herhangi bir yabancı madde veya artık fotodirenç RIE odasınıtemizleme. </li><li> Torr elde edilir 1 × 10 -5 taban basıncı kadar odasını aşağı Pompa. RF güç 200 W ayarlanır ve oksijen ve argon için akış oranları sırasıyla 50 sccm&#39;lik ve 10 sccm&#39;lik ayarlanmış olduğundan emin olun. Ar / O 2 plazma ateşleyin ve en az 1 saat süre ile çalıştırın. </li><li> Ar / O 2 plazma kapatın ve oda yaklaşık 10 dakika havalandırma sağlar. </li><li> Platin ince film yüzeyini etch için, RIE odasına örnek yüklemek ve 1 × 10 -5 Torr taban basıncı aşağı odasına pompa. Bu sefer 0 sccm&#39;lik argon akış hızını ayarlamak. O 2 plazma ateşleyin ve bu süreç 30 dakika çalıştırın. </li><li> O 2 plazma kapatın ve oda 10 dakika havalandırma sağlar. </li></ol> Özel L kullanma Fotokromık Molekülünün 2. Termal Buharlaştırmaow Sıcaklık Evaporatör (LTE) <ol><li> BTE 30 mg AlO 2 tekne doldurun ve özel LTE kaynağı (Şekil 6) yüklemek. </li><li> Numune yükleyin silikon gofret monte. </li><li> Mühür odası limanlar ve pompa odası 1 x 10 -6 Torr taban basıncı aşağı. </li><li> 30 nm bir film kalınlığına sahip, 100 ° C&#39;lik bir çıkış sıcaklığı değerinde BTE buharlaştırın. </li><li> Hemen buharlaştırma sonrası, sel, kapalı forma 1c BTE malzeme dönüştürmek için UV 5 dk örnek aydınlatmak. </li><li> Örnek büyüklüğünü tanımlamak için, silikon yüzeyinin kenarından bir çizgi kazımak için bir elmas çizici kullanarak gofret küçük bir parça bölmektedir. Karalama hattının her iki tarafında gofret tut ve kristal düzlemi boyunca kopana kadar aşağıya gofret bükün. </li><li> BTE ince film kalınlığı doğrulamak için profilometre ölçümleri yapın. Bunu yapmak için, ince bir kenar cımbız kullanarak örnek çizmeyin. Sağa sola adım yüksekliğini ölçünm sağ ve sol imleç pozisyonu arasındaki yükseklik farkı olan bu çizik. NOT: film kalınlığı yanlışlıklar poz doz farklılıklara neden olur. </li><li> N 2 dolu torpido gözü saklayın kalan örnek. </li></ol> 3. Sergilenmeler NOT: numune bozulmasını önlemek için atıl atmosfer koşullarında tüm pozlama yapın. <ol><li> Aşama 2.6 de tarif edilen aynı prosedür takip edilerek örnek bölmektedir. </li><li> Atıl atmosfer numune tutucuya yük örneği. </li><li> Sahnede atıl örnek tutucu monte edin. N 2 ile Temizle örneği. </li><li> Böyle Şekil 8&#39;de gösterildiği gibi bir interferometre&#39;yi kullanılarak istenilen pozlama süresi örnek Açığa. </li></ol> Üç Elektrot Hücre Kullanılması 4. Elektrokimyasal oksidasyon NOT: numunenin bozulmasını önlemek için atıl bir atmosfer koşulları altında elektrokimya yapın. <ol><li> Sıcak bir plaka üzerine temiz bir cam şişe sıkıştırın. Şişe içinde temiz bir karıştırma çubuğu yerleştirin. Karıştırıcı açın. </li><li> Metanol ile yeni bir bakır klip temizleyin. Metanol ile platin elektrot sayacı temizleyin. </li><li> Temiz bir bakır klibi kullanarak, teflon şişe kapağı deliklerden biri aracılığıyla örnek klibi. Sadece maruz kalan platin üzerine klibi emin olun. </li><li> Flakon üzerine teflon şişe kapağını yerleştirin. Platin karşı elektrot ve örnek tutarak bakır klibi üzerine siyah kurşun üzerine kırmızı kurşun Klip. </li><li> Temiz bir şırıngayı kullanarak, teflon bir vial kapağa ikinci deliğin içinden süzülmüş deiyonize edilmiş (Di) su ile şişe doldurun. Numune üzerinde çıplak platin herhangi batırılarak olmadan yüksek doldurun. </li><li> 3-5 dakika boyunca suda kabarcık azot. Azot kapatın. </li><li> Teflon şişe kapağı ikinci deliğe referans elektrot yerleştirin. Referans elektrot üzerine beyaz kurşun Klip. Çıplak platin o emin olmak için kontrol edin hiçbirin örnek batırılır. </li><li> Bir voltammograph kullanarak, 0,5 V / sn oksidasyon gerilimi ayarlayın. </li><li> İstenilen oksidasyon süresi geçtikten sonra, voltammograph kapalı açın. </li><li> Platin karşı elektrot, bakır klip ve referans elektrottan, kırmızı, siyah, beyaz klipleri çıkarın. </li><li> 5 dakika boyunca UV örnek Açığa. </li></ol> 5. Numune Geliştirme - Elektrokimyasal Kilitleme NOT: numune bozulmasını önlemek için atıl atmosfer koşullarında gelişme gerçekleştirin. <ol><li> Süzüldü 5 (ağırlıkça%), izopropanol örnek geliştirmek, istenen süre için 95 (% ağ) etilen glikol bulunmaktadır. Not: 80 nm örnekleri 60-180 saniye için geliştirilmiş Tipik olarak 50 nm örnekleri, 30-60 saniye için geliştirilmiştir. </li><li> Kuru N 2 ile kuru numune. </li><li> Hemen UV 5 dk örnek maruz. </li></ol> 6. Numune Geliştirme - Fesih Kilitleme </em&gt; NOT: numune bozulmasını önlemek için atıl atmosfer koşullarında gelişme gerçekleştirin. <ol><li> Temiz bir cam beher içerisindeki etilen glikolün 100 ml kullanılarak, arzu edilen gelişme süre maruz örnek geliştirmek. </li><li> Kuru N 2 ile kuru numune. Hemen UV 5 dk örnek maruz. </li></ol> 7. Çoklu Pozlama <ol><li> Birden fazla maruziyet tekrarını performans optik göre numunenin bir çeviri ile 3-6 arasındaki adımları edin. </li></ol>

<ol>
	<li>Brimhall, N., Andrew, T. L., Manthena, R. V., Menon, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Breaking+the+far-field+diffraction+limit+in+optical+nanopatterning+via+repeated+photochemical+and+electrochemical+transitions+in+photochromic+molecules.">Breaking the far-field diffraction limit in optical nanopatterning via repeated photochemical and electrochemical transitions in photochromic molecules.</a> Physical Review Letters. 107 (20), 205501 (2011).</li><li>Cantu, P., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Subwavelength+nanopatterning+of+photochromic+diaryethene+films.">Subwavelength nanopatterning of photochromic diaryethene films.</a> Applied Physics Letters. 100 (18), 183103 (2012).</li><li>Cantu, P., Andrew, T. L., Menon, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanopatterning+of+diarylethene+films+via+selective+dissolution+of+one+photoisomer.">Nanopatterning of diarylethene films via selective dissolution of one photoisomer.</a> Applied Physics Letters. 103 (17), 173112 (2013).</li><li>Abbe, E. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Beitr&#228;ge+zur+Theorie+des+Mikroskops+und+der+mikroskopischen+Wahrnehmung.">Beitr&#228;ge zur Theorie des Mikroskops und der mikroskopischen Wahrnehmung.</a> Archiv f&#252;r mikroskopische Anatomie. 9 (1), 413-418 (1873).</li><li>Li, L., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Achieving+&#955;/20+resolution+by+one-color+initiation+and+deactivation+of+polymerization.">Achieving &#955;/20 resolution by one-color initiation and deactivation of polymerization.</a> Science. 324 (5929), 910-913 (2009).</li><li>Fischer, J., von Freymann, G., Wegener, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=The+materials+challenge+in+diffraction-unlimited+direct-laser-writing+optical+lithography.">The materials challenge in diffraction-unlimited direct-laser-writing optical lithography.</a> Advanced Materials. 22 (32), 3578-3582 (2010).</li><li>Mirkin, C. A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Beam+pen+lithography.">Beam pen lithography.</a> Nature Nanotechnology. 5, 637-640 (2010).</li><li>Xie, X., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Manipulating+spatial+light+fields+for+micro-+and+nano-photonics.">Manipulating spatial light fields for micro- and nano-photonics.</a> Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures. 44, 1109-1126 (2012).</li><li>Leroy, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=High-speed+metal-insulator+transition+in+vanadium+dioxide+films+induced+by+an+electrical+pulsed+voltage+over+nano-gap+electrodes.">High-speed metal-insulator transition in vanadium dioxide films induced by an electrical pulsed voltage over nano-gap electrodes.</a> Applied Physics Letters. 100 (21), 213507 (2012).</li><li>Carr, D., Sekaric, L., Craighead, H. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Measurement+of+nanomechanical+resonant+structures+in+single-crystal+silicon.">Measurement of nanomechanical resonant structures in single-crystal silicon.</a> Journal of Vacuum Science &amp; Technology B. 16 (6), 3821-3824 (1998).</li><li>Wilhelmi, O., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Rapid+prototyping+of+nanostructured+materials+with+a+focused+ion+beam.">Rapid prototyping of nanostructured materials with a focused ion beam.</a> Japanese Journal of Applied Physics. 47 (6), 2010-5014 (2008).</li><li>Hell, S. W. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Far-field+optical+nanoscopy.">Far-field optical nanoscopy.</a> Science. 316 (5828), 1153-1158 (2007).</li><li>Chou, S. Y., Krauss, P. R., Renstrom, P. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Nanoimprint+lithography.">Nanoimprint lithography.</a> Journal of Vacuum Science &amp; Technology B. 14, 4129 (1996).</li><li>Guillemette, M. D., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Surface+topography+induces+3D+self-orientation+of+cells+and+extracellular+matrix+resulting+in+improved+tissue+function.">Surface topography induces 3D self-orientation of cells and extracellular matrix resulting in improved tissue function.</a> Integrative Biology. 1 (2), 196-204 (2009).</li></ol>

The authors have nothing to disclose.

The fabrication, experimental setup and related operational procedures of Patterning via Optical Saturable Transitions (POST) have been described. By exploiting the linear switching properties of thermally stable photochromic molecules, POST offers new perspectives on circumventing the far-field diffraction limit.1-2,4
Previously long-term storage requirement of the samples was solved by storing the samples under N2, directly after the initial evaporation.2 How...

Optik litografi nano ölçekli yapıları ve cihazların üretiminde kilit öneme sahiptir. Yeni litografi teknikleri artan gelişmeler yeni cihazların yeni nesillere sağlamak için yeteneğine sahiptir. 8-11 Bu makalede, bir yorum, yeni photoswitchable molekülleri kullanılarak derin alt dalga boyu çözünürlük elde optik litografi teknikleri bir sınıfın sunulmaktadır. Bu yaklaşım, Optik-Doyurulabilen Geçişleri (POST) üzerinden Desenlendirme denir. 1-3 POST benzersiz özel olarak ise, (1,2-bis (5,5&#39;-dimetil-2,2&#39;-bitiofen-il)) fotokromık moleküllerin optik geçişlerin saturasyon fikirleri birleştiren yeni bir nano sentezleme tekniği perfluorocyclopent-1-en olup. Halk arasında, bu bileşik, bu larg için güçlü bir araç yapar parazit litografi ile, örneğin uyarılmış emisyon deliği (STED&#39;in) mikroskopi 12 kullanılanlar gibi BTE, Şekil 1, olarak adlandırılır2- ve 3-boyutlarına potansiyel uzantılı çeşitli yüzeyler üzerine derin subwavelength özellikleri e alan paralel nanopatterning. fotokromik tabaka aslında bir homojen devlet. Bu tabaka, λ 1 üniform bir aydınlatma maruz kaldığında, ikinci izomerik durum (1c), Şekil 2&#39;de dönüştürür. Daha sonra numune ilk olarak izomerik duruma örnek (dönüştürür λ 2, bir odaklanmış düğüm maruz 1o) her yerde düğümün yakın çevresinde dışında. Maruz kalma dozunu kontrol ederek, dönüştürülmemiş bölgesinin boyutu isteğe bağlı olarak küçük yapılabilir. Izomerlerden biri bir sonraki tespit adımı, ve geri dönüşü olmayan bir desen kilitlemek için (siyah) bir 3. durumuna (kilitli) dönüştürülebilir. Sonraki katman özgün durumuna kilitli bölgesi hariç her şeyi dönüştürür λ 1, muntazam maruz kalmaktadır.adımların sırası, aralarındaki mesafenin uzak-alan kırınım sınırından daha küçük olan iki kilitli bölgede elde edilen, optik numunenin bir yer değiştirme ile tekrar edilebilir. Bu nedenle, her hangi keyfi bir geometri &quot;dot-matrix&quot; bir şekilde paternli olabilir. 1-3

<table border="0" cellpadding="0" cellspacing="0" width="778">
	<tbody>
		<tr height="42">
			<td height="42" style="height:42px;width:216px;">Name of Material/ Equipment</td>
			<td style="width:205px;">Company</td>
			<td style="width:119px;">Catalog Number</td>
			<td style="width:239px;">Comments/Description</td>
		</tr>
		<tr height="63">
			<td height="63" style="height:63px;width:216px;">Isopropanol</td>
			<td style="width:205px;">Fisher Scientific</td>
			<td style="width:119px;">P/7500/15</td>
			<td style="width:239px;">CAUTION: flammable, use good 
			ventilation and avoid all ignition 
			sources.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Buffered Oxide Etch</td>
			<td style="width:205px;"></td>
			<td style="width:119px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="63">
			<td height="63" style="height:63px;width:216px;">Methanol</td>
			<td style="width:205px;">Ricca Chemical</td>
			<td style="width:119px;">48-293-2&#160;</td>
			<td style="width:239px;">CAUTION: flammable, use good 
			ventilation and avoid all ignition 
			sources.</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Ethylene Glycol</td>
			<td style="width:205px;">Sigma-Aldrich</td>
			<td style="width:119px;">324558</td>
			<td>CAUTION: Harmful if swallowed</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Silicon wafer</td>
			<td style="width:205px;"></td>
			<td style="width:119px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Diamond Scribe</td>
			<td style="width:205px;"></td>
			<td style="width:119px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Glass Beakers</td>
			<td style="width:205px;"></td>
			<td style="width:119px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Tweezers</td>
			<td style="width:205px;">Ted Pella</td>
			<td style="width:119px;">5226</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="42">
			<td height="42" style="height:42px;width:216px;">Reactive Ion Etching System</td>
			<td style="width:205px;">Oxford</td>
			<td style="width:119px;">Plasma Lab 80 Plus</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="42">
			<td height="42" style="height:42px;width:216px;">Inert Atmosphere Sample Holder</td>
			<td style="width:205px;">Proprietary In-house Designed</td>
			<td style="width:119px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Polarizing beamsplitter cube</td>
			<td style="width:205px;">Thorlabs</td>
			<td style="width:119px;">PBS052</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">HeNe Laser</td>
			<td style="width:205px;">Melles Griot</td>
			<td style="width:119px;">25-LHP-171</td>
			<td>CAUTION: Wear safety glasses</td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Half-wave plates</td>
			<td style="width:205px;">Thorlabs</td>
			<td style="width:119px;">WPH05M-633</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="42">
			<td height="42" style="height:42px;width:216px;">Thermal Evaporator</td>
			<td style="width:205px;">Proprietary In-house Designed</td>
			<td style="width:119px;"></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">TMV Super</td>
			<td style="width:205px;">TM Vacuum Products</td>
			<td style="width:119px;">TMV Super</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Voltammograph</td>
			<td style="width:205px;">Bioanalytical Systems</td>
			<td style="width:119px;">CV-37</td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr height="21">
			<td height="21" style="height:21px;width:216px;">Shortwave UV lamp 365nm</td>
			<td style="width:205px;">UVP Analytik Jena Company</td>
			<td style="width:119px;">UVGL-25</td>
			<td>CAUTION: Wear UV safety glasses</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

patterning via optical saturable transitions - fabrication and characterization

This protocol describes the fabrication and characterization of nanostructures using a novel nanolithographic technique called Patterning via Optical Saturable Transitions (POST). In this technique the chemical properties of organic photochromic molecules that undergo single-photon reactions are exploited, enabling rapid top-down nanopatterning over large areas at low light intensities, thereby, allowing for the circumvention of the far-field diffraction barrier.4 Simple, cost-effective, high throughput and resolution alternatives to nanopatterning are being explored, such as, two-photon polymerization5,6, beam pen lithography (BPL)7, scanning electron beam lithography (SEBL), and focused ion beam (FIB) patterning. However, multi-photon approaches require high light intensities, which limit their potential for high throughput and offer low image contrast. Although, electron and ion beam lithographic processes offer increased resolution, the serial nature of the process is limited to slow writing speeds, which also prevents patterning of features over large areas. Beam-pen lithography is an approach towards parallel near-field optical lithography. However, the gap between the source of the beam and the surface of the photoresist needs to be controlled extremely precisely for good pattern uniformity and this is very challenging to accomplish for large arrays of beams. Patterning via Optical Saturable Transitions (POST) is an alternative optical nanopatterning technique for patterning sub-wavelength features1-3. Since this technique uses single photons instead of electrons, it is extremely fast and does not require high light intensities1-3, opening the door to massive parallelization.

Fabrikasyon örnekler: Siklik voltametri tespit 0.85 V oksidasyon geriliminde Şekil 3&#39;te atomik kuvvet mikrograflar ile gösterildiği gibi farklı oksidasyon kez karakterize edilmiştir. 50 nm-kalınlıkta bir film 0.95 mW / cm2 &#39;lik bir güç yoğunluğu ile 60 saniye süre 400 nm λ = 647 nm&#39; de bir dik dalganın maruz bırakılmıştır. Oksidasyon süresi 25 dakika 10 dakika arası arttıkça 1O&#39;da oluşan ba...

Watch this Scientific Journal Video about Patterning via Optical Saturable Transitions - Fabrication and Characterization at JoVE.com

Patterning via Optical Saturable Transitions - Fabrication and Characterization

We report that the diffraction limit of conventional optical lithography can be overcome by exploiting the transitions of organic photochromic derivatives induced by their photoisomerization at low light intensities.1-3 This paper outlines our fabrication technique and two locking mechanisms, namely: dissolution of one photoisomer and electrochemical oxidation.

Optik Doyurulabilen Geçişler aracılığıyla Desenlendirme - İmalat ve Karakterizasyonu

This protocol describes the fabrication and characterization of nanostructures using a novel nanolithographic technique called Patterning via Optical ...

patterning-via-optical-saturable-transitions-fabrication

Research

JoVE Journal

Engineering

6.7K Görüntüleme.  The University of Utah. We report that the diffraction limit of conventional optical lithography can be overcome by exploiting the transitions of organic photochromic derivatives induced by their photoisomerization at low light intensities.1-3 This paper outlines our fabrication technique and two locking mechanisms, namely: dissolution of one photoisomer and electrochemical oxidation.