Yazarlar için Horizon 2020 araştırma ve yenilik program Borealis - karmaşık 3D nesil 3A enerji sınıfı yeni katkı ve Eksiltici üretim için esnek makine Avrupa araştırma projesi kabul etmek istiyorum metal parçalar

1. toz karakterizasyonu
<ol><li>Bir alüminyum PIN saplama üzerinde bulunan ve içinde numune odası, bir alan emisyon Taramalı elektron mikroskobu (Morfoloji toz16analiz etmek için FESEM) eklemek bir çift taraflı yapışkan karbon teyp üzerindeki Ti-6Al-4V tozlar başlayan 3 g koymak.</li>
	<li>30 cm3 konteyner doldurarak toz belirgin yoğunluğunu ölçmek ve toz ASTM B212 standardına göre ağırlığını ölçmek.</li>
	<li>Kullanılan toz (5-10 g), toz (5-10 g) ve birleştiğinde yatırılan blok (20 g) elemental (örneğin, Leco) aracılığıyla ve İndüktif plazma (ICP) Çözümleyicisi17başlayan kimyasal çözümlemesi gerçekleştirin.</li>
</ol>2. yönlendirilmiş enerji birikimi tek parça
<ol><li>
Toz yükleme
	<ol>
<li>Bir FFP3 solunum maskesi gereksinimlerine EN 149, pudra içermeyen tek kullanımlık nitril eldiven ve koruyucu plastik gözlük için de dahil olmak üzere kişisel koruyucu ekipman giymek.</li>
		<li>Besleme sistemi toz hazne açın ve bir aspiratör fan (örneğin, ATEX) kalan toz kaldırmak için kullanın.</li>
		<li>Hazne Oluşturucu tarafından verilen uygun yönergeleri izleyerek çıkarın ve her bileşen etanol batırılmış kağıt havlu kullanarak temizleyin. Not: Bu çeşit parçacýklarýn bulunduðu alanlar sayýlabilir kirlenmesini önlemek için temel adımdır.</li>
		<li>Hopper Oluşturucu tarafından verilen talimatları izleyerek besleme toz yeniden monte. Bir kenara sadece üst kapağı, hopper toz yükleme gerçekleştirmek için bırakın.</li>
		<li>Hazne granülometresi aralığı 50-150 µm. kullanılabilir hopper büyüklüğüne bağlı olarak sahip Ti-6Al-4V tozlar yükleyin, eksiksiz doldurunuz.</li>
		<li>Hazne üst kapağı çok sıkı bir şekilde herhangi bir gaz kaçağı önlemek için kapatın.</li>
	</ol>
</li>
	<li>
Örnek hazırlanması
	<ol>
<li>50 x 50 mm boyutları ve 4 mm kalınlığında bir Ti-6Al-4V sayfası seç.</li>
		<li>Etanol bulanmış kağıt havlu ile titanyum levha yüzeyini temizlemek. Kağıdın ağırlığı ile centesimal bir denge ölçmek.</li>
		<li>Yer işaretleyicisinin konumunu göre çalışma alanı sayfasında. Yani bu robot programlanmış yol göre belirlenir nerede ifade, gerçekleşecek çalışma alanıdır.</li>
	</ol>
</li>
	<li>
Robot ve hazırlık ifade ekipman hazırlanması
	<ol>
<li>Meme meme ekseni ve lazer eksen arasındaki açı 35 ° olduğunu lazer kafasına bağlarsınız.</li>
		<li>Robot kalibrasyon gerçekleştirmek için başlangıç çalışma noktaya taşıyın.</li>
		<li>Meme ve çalışma uçak arasındaki mesafe denetleyip, ölçülen mesafe 5 mm kadar gerekirse, el ile meme konumunu düzeltin. Not: bu yana çalışma alanı yatay bir düzlem üzerinde bırakır, bu sac ve meme ucu arasındaki dikey mesafe mesafedir.</li>
		<li>Meme çıkış lazer ile merkezleme kontrol: önce bir rehber lazer lazer control yazılımı "Lazer Kılavuzu ON" komutunu tıklatarak geçin. Daha sonra 0.8 mm jant çapında ve 200 mm uzunluğunda, meme içinde ölçüm ince bir çubuk koyun. Çubuk ucu ve nokta lazer kılavuzun çakışık olduğunu doğrulayın. Eğer değilse, el ile mesafeler ve daha önce belirtilen açıları saygı meme, konumunu ayarlamak. Not: Bu durumda, meme dış çapı 1 mm olan; daha küçük çaplı bir meme istihdam, kimin çapı meme bundan daha küçük bir çubuk kullanın.</li>
		<li>Robot kontrol yazılımı yazılmış kalibrasyon verileri doğrulayın: yazılım "Uygula" butonuna tıklayın ve kod derleme için bekleyin. Not: Yazılım kod hatalarını kontrol eder; herhangi bir hata algılanırsa, kod robot denetleyicisinde saklanır. Hatalar algılanırsa, kodun derlenmiş olmayacak ve daha fazla gözden geçirme gerekecektir.</li>
		<li>Lazer kaynak modül lazer kontrol yazılımı "Lazer etkinleştir" komutunu tıklatarak etkinleştirin. Not: 5 kW maksimum güç ile kızılötesi bölgesi (1064 nm) yayan bir sürekli fiber lazer istihdam lazer kaynağıdır.</li>
		<li>Robotun motorlar el ile "Üzerinde Robot motorlar", robot kontrol kabinine üzerinde butona basarak etkinleştirmek ve ilgili güvenlik LED yaktı kontrol edin: Eğer Yani, bu motorlar etkin anlamına gelir.</li>
	</ol>
</li>
	<li>
Biriktirme işlemini başlatmak
	<ol>
<li>Varolan program listesinde uygun dosyayı seçin ve çalışma yolunu ana robot rutin içine yükleyin.</li>
		<li>Lazer ve robot parametrelerini kontrol edin: lazer güç belirli lazer güç (325, 650, 980, 1500 W) ve belirli bir hız robot hıza ayarlayın (30, 40, 50, 60 mm/s). Not: Bu parametreler göre belirli bir dil makinenin robot kontrol yazılımı yazılır.</li>
		<li>Yeni parametreleri software "Uygula" düğmesine basarak onaylayın ve kodun derlenmesi için bekleyin. Yazılım kod hatalarını kontrol eder; herhangi bir hata algılanırsa, kod robot denetleyicisinde saklanır ve var olmak denize indirmek hazır. Robot rutin robot kontrol yazılımı üzerinde "Başlat" düğmesine basarak Başlat.</li>
	</ol>
</li>
	<li>Özel nipper kullanarak örnek almak ve herhangi bir kalıntı toz kaldırmak için bir etanol bulanmış kağıt havlu ile örnek yüzeyi temizleyin.</li>
</ol>3. analiz tek parça
<ol><li>Üstten tek parça stereo mikroskop vasıl 5 X büyütme tarafından analiz. Not: Bu aşamada, bazı görüntülerin stereo mikroskop aracılığıyla alınır ve görsel olarak analiz.</li>
	<li>Tek parça yatırılan parça orta ifade yönüne dik hassas kesici bir alet kullanarak kesmek.</li>
	<li>Kesiti epoksi reçine tek parça monte. Bir montaj Kupası seçin ve temiz ve kuru numune yerleştirin. Reçine doğru miktarda ağırlık (10 g/örnek) tarafından dikkatle ölçün ve sıvı bir sertleştirici (6 g/örnek) ile karıştırın. Numune reçine karışımı dökün ve oda sıcaklığında 30 dakika tedavi için dolgulu montaj su bardağı bırak. Bundan sonra 500, 800 ve 1200 grit boyutu SIC kağıt takılı numuneler bilenmesi ve elmas Yapıştır aşağı elmas partikülleri (1 µm) ince boyutları kullanarak Lehçe.</li>
	<li>Parlatılmış yüzeyler şekli ve porozite açısından bir optik mikroskobu aracılığıyla analiz. 10 X büyütme, optik mikroskop ile melt havuzları görüntülerini almak ve sonra onları analiz görüntü-J yazılım kullanarak.</li>
	<li>Erime havuzu alt ve üst arasındaki mesafeyi ölçerek eritebilir havuzları yüksekliğini ölçmek. Daha sonra erimiş havuzları ölçülen yüksekliği belirli enerji yoğunluğu, karşılık gelen denklemi göre hesaplanan bir fonksiyonu olarak çiz. Gerçekten de, enerji yoğunluğu aşağıda ki formül ile hesaplanabilir: <img alt="Equation 1" src="/files/ftp_upload/56966/56966eq1.jpg">
</li>
	<li>2nd sipariş polinom belirli enerji yoğunluğu bir fonksiyonu olarak katman kalınlığı karşılık gelen denklem elde etmek için deneysel sonuçlarına uygun.</li>
	<li>Belirli bir enerji yoğunluğu dikkate ve önceki adımda gözlendi ilişkilerine göre katman kalınlığı hesaplamak.</li>
	<li>Yöntem doğrulamak için çok katmanlı bir blok hesaplanan tabakası kalınlığı göz önüne alınarak imal ve blok porozite ve son yükseklik açısından bölümünü karakterize.</li>
	<li>Parlatma bir adım sonrası, yordamın aynısını Bölüm 3.3 olarak fabrikasyon blok Mikroyapı analiz. Aslında, final parlatma sonra örnekleri için 30 etch 92 mL distile su, 6 mL nitrik asit ve 2 mL hidroflorik asit içeren Kroll'ın reaktif bir iyimsersin.</li>
</ol>

<ol>
	<li>Banerjee, D., Williams, J. C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Perspectives+on+Titanium+Science+and+Technology.">Perspectives on Titanium Science and Technology.</a> Acta Mater. 61 (3), 844-879 (2013).</li><li>Peters, M., Leyens, C., Peters, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=.">.</a> Titanium and Titanium Alloys. , (2003).</li><li>Lin, J., Lv, Y., Liu, Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Microstructural+evolution+and+mechanical+property+of+Ti-6Al-4V+wall+deposited+by+continuous+plasma+arc+additive+manufacturing+without+post+heat+treatment.">Microstructural evolution and mechanical property of Ti-6Al-4V wall deposited by continuous plasma arc additive manufacturing without post heat treatment.</a> J Mech Behav Biomed Mater. 69 (December 2016), 19-29 (2017).</li><li>Saboori, A., Gallo, D., Biamino, S., Fino, P., Lombardi, M. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=An+Overview+of+Additive+Manufacturing+of+Titanium+Components+by+Directed+Energy+Deposition:+Microstructure+and+Mechanical+Properties.">An Overview of Additive Manufacturing of Titanium Components by Directed Energy Deposition: Microstructure and Mechanical Properties.</a> Appl Sci. 7 (9), (2017).</li><li>Wu, X., Liang, J., Mei, J., Mitchell, C., Goodwin, P. S., Voice, W. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Microstructures+of+laser-deposited+Ti-6Al-4V.">Microstructures of laser-deposited Ti-6Al-4V.</a> Mater Des. 25 (2), 137-144 (2004).</li><li>Trevisan, F., Calignano, F., Aversa, A., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Additive+manufacturing+of+titanium+alloys+in+the+biomedical+field:+processes,+properties+and+applications.">Additive manufacturing of titanium alloys in the biomedical field: processes, properties and applications.</a> J Appl Biomater Funct Mater. , (2017).</li><li>Mahamood, R. M., Akinlabi, E. T. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Scanning+speed+and+powder+flow+rate+influence+on+the+properties+of+laser+metal+deposition+of+titanium+alloy.">Scanning speed and powder flow rate influence on the properties of laser metal deposition of titanium alloy.</a> Int J Adv Manuf Technol. 91 (5-8), (2017).</li><li>Shim, D., Baek, G., Seo, J., Shin, G., Kim, K., Lee, K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Effect+of+layer+thickness+setting+on+deposition+characteristics+in+direct+energy+deposition+(+DED+)+process.">Effect of layer thickness setting on deposition characteristics in direct energy deposition ( DED ) process.</a> Opt Laser Technol. 86, 69-78 (2016).</li><li>Gharbi, M., Peyre, P., Gorny, C., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Influence+of+various+process+conditions+on+surface+finishes+induced+by+the+direct+metal+deposition+laser+technique+on+a+Ti-6Al-4V+alloy.">Influence of various process conditions on surface finishes induced by the direct metal deposition laser technique on a Ti-6Al-4V alloy.</a> J Mater Process Technol. 213 (5), 791-800 (2013).</li><li>Davim, J. P., Oliveira, C., Cardoso, A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Predicting+the+geometric+form+of+clad+in+laser+cladding+by+powder+using+multiple+regression+analysis+(MRA).">Predicting the geometric form of clad in laser cladding by powder using multiple regression analysis (MRA).</a> Mater Des. 29 (2), 554-557 (2008).</li><li>Kobryn, P. A., Moore, E. H., Semiatin, S. L. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=The+Effect+Of+Laser+Power+And+Traverse+Speed+On+Microstructure,+Porosity,+And+Build+Height+In+Laser-Deposited+Ti-6Al-4V.">The Effect Of Laser Power And Traverse Speed On Microstructure, Porosity, And Build Height In Laser-Deposited Ti-6Al-4V.</a> Scripta Materialia. 43, 299-305 (2000).</li><li>Bi, G., Gasser, A., Wissenbach, K., Drenker, A., Poprawe, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Characterization+of+the+process+control+for+the+direct+laser+metallic+powder+deposition.">Characterization of the process control for the direct laser metallic powder deposition.</a> Surf Coatings Technol. 201 (6), 2676-2683 (2006).</li><li>Choi, J., Chang, Y. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Characteristics+of+laser+aided+direct+metal/material+deposition+process+for+tool+steel.">Characteristics of laser aided direct metal/material deposition process for tool steel.</a> Int J Mach Tools Manuf. 45 (4-5), 597-607 (2005).</li><li>Ruan, J., Tang, L., Liou, F. W., Landers, R. G. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Direct+Three-Dimensional+Layer+Metal+Deposition.">Direct Three-Dimensional Layer Metal Deposition.</a> J Manuf Sci Eng. 132 (6), 64502-64506 (2010).</li><li>Chen, X., Tao, Z. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Maximum+thickness+of+the+laser+cladding.">Maximum thickness of the laser cladding.</a> Key Eng Mater. 46, 381-386 (1989).</li><li>Slotwinski, J. A., Garboczi, E. J., Stutzman, P. E., Ferraris, C. F., Watson, S. S., Peltz, M. A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Characterization+of+Metal+Powders+Used+for+Additive+Manufacturing.">Characterization of Metal Powders Used for Additive Manufacturing.</a> J Res Natl Inst Stand Technol. 119, 460-493 (2014).</li><li>Manfredi, D., Calignano, F., Krishnan, M., Canali, R., Ambrosio, E. P., Atzeni, E. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=From+Powders+to+Dense+Metal+Parts:+Characterization+of+a+Commercial+AlSiMg+Alloy+Processed+through+Direct+Metal+Laser+Sintering.">From Powders to Dense Metal Parts: Characterization of a Commercial AlSiMg Alloy Processed through Direct Metal Laser Sintering.</a> Materials. 6 (3), 856-869 (2013).</li></ol>

Yazarlar ifşa gerek yok.

Bu çalışmada, odak Dilimleme kalınlık ayarı Ti-6Al-4V, DED süreçte eritebilir havuzu özellikleri geometri göre oldu. Bu amaçla, bir iki adım protokol tanımlanan ve kullanılan. Bir optimizasyon tek tarama ifade için süreç parametrelerinin Protokolü'nün ilk parçasıydı ve, bu adımda optimum parametreleri elde edildi ve erime havuzu geometrileri ölçüldü. Protokolü'nün ikinci bölümünde optimum parametreleri, örneklerin belirli enerji yoğunluğu hesaplanır. Bu adımda, erime havuzu yüksekli?...

En sık Havacılık, uçak, otomotiv, Ti alaşımlı ve Biyomedikal sanayi, yüksek güç-ağırlık oranı, mükemmel kırık tokluk, düşük özgül ağırlık, mükemmel korozyon direnci ve ısı nedeniyle kullanılan ti-6Al-4V olduğunu arıtılabilirlik. Ancak, onun gelişme diğer uygulamalarda zorlu, düşük ısı iletkenlik ve yüksek reaktivite özellikler sayesinde, hangi içinde onun zavallı makine performansı neden. Ayrıca, kesim sırasında olayları sertleştirme ısı nedeniyle üstlenmiş1,2,3,4özel ısıl olmalı.
Yine de, katkı (AM) teknolojileri üretim fiyat ve enerji tüketimini azaltmak ve bazı Ti-6Al-4V alaşım imalat mevcut sorunları adresi yeni üretim teknikleri olarak kullanılmak üzere büyük potansiyel gösterdi.
Katkı üretim teknikleri yenilikçi olarak bilinir ve çevre net şekle imal bir katman katman moda bileşen. Bilgisayar destekli tasarım (CAD) modeli ince tabakalar dilimler ve daha sonra bileşen katman katman oluşturur, bir katman katman katkı üretim yaklaşımı tüm AM yöntemleri için esastır. Genel olarak, dört farklı işlemleri halinde katkı metalik malzemeleri imalatı ayrılabilir: toz yatak, toz (şişmiş toz) yem, yem tel ve diğer yolları3,5,6.
Enerji birikimi (DED) katkı imalat sınıfıdır ve üç boyutlu (3D) fabricates bir gaz toz süreç net şekli sağlam parçalar diğer AM yöntemlerine benzer bir CAD dosyasından yakınındaki yönetti. Diğer teknikleri, aksine DED yalnızca bir üretim yöntemi olarak kullanılabilir değil ama aynı zamanda yüksek değer parçalar için bir tamir teknik olarak istihdam edilebilir. DED işleminde Metalik toz veya tel malzeme taşıyıcı gaz tarafından beslenir veya lazer tarafından oluşturulur erime havuza motorlar ikisinden biri üstünde belgili tanımlık substrate ışınla veya daha önce katmanı yatırılır. Satın fly oranı azalan yeteneğine sahiptir ve aynı zamanda daha önce yerine prohibitively pahalıydı değeri yüksek parçalar veya onarılamaz7onarma yeteneğine sahiptir umut verici bir gelişmiş üretim süreci DED işlemidir.
İstenen geometrik boyutları ve malzeme özelliklerini elde etmek için uygun parametrelerle8kurmak için hayati önem taşımaktadır. Çeşitli çalışmalarda işlem parametrelerini ve yatırılan örnek son özellikleri arasındaki ilişkiyi aydınlatmak üstlenmiştir. Peyre vd. 9 farklı işlem parametreleri ile bazı ince duvarlar inşa ve sonra onları 2D ve 3D profilometrisi kullanarak ile karakterizedir. Gösterdiler tabakası kalınlığı ve erime havuzu birim pürüzlülük parametreleri belirgin şekilde etkiler. Vim ve ark. 10 işlem parametreler ve bir tek kaplama katmanı (kaplı yükseklik, kaplı genişlik ve derinlik penetrasyon) geometrik özellikleri arasındaki ilişkiyi analiz için bir model önerdi.
Bugüne kadar birçok araştırma TI DED alaşımları bildirilmiştir, en bunların parametrelerinin birleşiminin etkisi büyük örnekleri11,12,4özellikleri üzerinde duruldu. Rasheedat ve ark. Lazer metal yatırılan Ti-6Al-4V alaşım elde edilen özelliklerini inceden inceye gözden geçirmek hız ve toz debisi etkisi okudu. Toz ve tarama hızını artırarak akış hızı mikroyapıda Widmanstätten yüzey pürüzlülüğü bir artışı ve yatırılan numuneler7Mikrosertlik sonuçları bir martensitik Mikroyapı değiştirildi olduğunu buldular. Yine de, daha az dikkat katman kalınlığı ayarını tasarımı için ödendi. Choi ve ark. Katman kalınlığı ve işlem parametreleri arasındaki ilişkiyi araştırdı. Onlar hata mevcut yüksekliği ile gerçek yüksekliği arasındaki ana kaynakları toz kitle akış oranı ve katman kalınlığı13ayarlama olduğunu bulmuşlardır. Katman kalınlığı ortamda uzun ve hatalı işlemleri dahil, kendi çalışmaları katman kalınlığı ayarını uygulamak değil düzgün. Ruan ve ark. Lazer tarama hızı sabit lazer güç ve toz oranı14besleme yatırılan katman yüksekliği üzerinde etkisini araştırdı. Belirli işleme koşulları altında elde edilmiştir katman kalınlığı ayarı için ampirik bazı modelleri teklif etmiş ve böylece katman kalınlığı ayarını belirli işlem parametreleri15kullanımı nedeniyle kesin olmayabilir. Önceki işleri aksine, bu el yazması önerilen işlemi ayarlama katmanı kalınlığı zaman ve malzeme kaybetmeden gerçekleştirilebilecek hızlı bir yöntemdir.
Bu çalışmanın ana odak optimum DED işlem parametreleri, Ti-6Al-4V alaşım tek parça özelliklerine dayanarak kalınlığı belirlenmesi için hızlı bir yöntem geliştirmektir. Bundan sonra en uygun işlem parametreleri bir katman kalınlığı belirlemek ve yüksek yoğunluklu Ti-6Al-4V blok israf zaman ve malzeme olmadan imal için istihdam edilmektedir.

<table>
	<tbody>
		<tr>
			<td>Ti-6Al-4V powder</td>
			<td>Xi&#8217;Tianrui new material</td>
			<td></td>
			<td>As starting material</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>ISOMET precision cutter</td>
			<td>Bohler</td>
			<td></td>
			<td>To cut the samples</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Polishing machine</td>
			<td>Presi</td>
			<td></td>
			<td>To polish the samples</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>EpoFix resin</td>
			<td>Presi</td>
			<td></td>
			<td>To mount the samples</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Diamond paste</td>
			<td>Presi</td>
			<td></td>
			<td>For polishing</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Optical Microscope</td>
			<td>Leica</td>
			<td></td>
			<td>Microstructural observation</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Field emission scanning electron microscope</td>
			<td>Merlin-Zeiss</td>
			<td></td>
			<td>Microstructural observation</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Stereo microscope</td>
			<td>Leica</td>
			<td></td>
			<td></td>
		</tr>
		<tr>
			<td>LEC1- CS444 ANALYSER</td>
			<td>IncoTest</td>
			<td></td>
			<td>Chemical analysis</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>LEC3 - ELTRA OHN2000 ANALYSER</td>
			<td>IncoTest</td>
			<td></td>
			<td>Chemical analysis</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>LEC2 - LECO TC436AR ANALYSER</td>
			<td>IncoTest</td>
			<td></td>
			<td>Chemical analysis</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>ICP</td>
			<td>IncoTest</td>
			<td></td>
			<td>Chemical analysis</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>IRB 4600</td>
			<td>ABB</td>
			<td></td>
			<td>Antropomorphic robot</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>GTV PF</td>
			<td>GTV</td>
			<td></td>
			<td>Powder feeding system</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>YW 52</td>
			<td>Precitec</td>
			<td></td>
			<td>Laser head</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>Nozzles</td>
			<td>IRIS</td>
			<td></td>
			<td>Nozzle for feeding powders</td>
		</tr>
		<tr>
			<td>YLS 3000</td>
			<td>IPG Photonics</td>
			<td></td>
			<td>Laser source</td>
		</tr>
	</tbody>
</table>

production of single tracks of ti-6al-4v by directed energy deposition to determine the layer thickness for multilayer deposition

Yönetmen enerji birikimi (DED), bir katkı imalat tekniği olan nerede metal toz parçacıkları enjekte edilir bir lazer ışını erimiş havuzuyla oluşturulmasını içerir. Genel olarak, bu teknik imal veya farklı bileşenlerini onar için istihdam edilmektedir. Bu teknikte, son özellikleri birçok faktör tarafından etkilenir. Nitekim, bileşenleri tarafından DED binada ana görevleri genellikle kapsamlı bir deneysel soruşturma yürütülen işlem parametreleri (örneğin, lazer güç lazer, odak, hız vb) getirilmesi olduğunu. Ancak, bu çeşit deney son derece uzun ve pahalı. Böylece, en iyi duruma getirme işlemini hızlandırmak için soruşturma eritebilir havuzu karakterizasyonu dayalı bir yöntem geliştirmek için yapılmıştır. Aslında, bu deneylerin lazer güç ve lazer hız Çoklu kombinasyonları ile DED işlem tarafından Ti-6Al-4V tek parça yatırılır. Yüzey morfolojisi ve tek parça boyutlarında analiz edildi ve erime havuzları geometrik özellikleri parlatma ve Matlaştırma kesit sonra değerlendirildi. En iyi işlem parametrelerinin seçimi ile ilgili bilgi yararlı eritebilir havuzu özelliklerini inceleyerek elde edilebilir. Bu deneyler büyük bloklar birden çok katman ile karakterize etmek için genişletilmiş. Nitekim, bu el yazması ne kadar hızlı bir şekilde büyük biriktirme katman kalınlığını belirlemek mümkün olacağını ve üzerinden önlemek veya altında birikimi optimum parametreleri göre hesaplanan enerji yoğunluğu açıklar. Fazla veya eksik ifade dışında zaman ve malzeme tasarrufu bu yaklaşım içinde çok katmanlı bileşenleri birikimi olmadan herhangi bir parametre optimizasyon açısından kalınlığı başlatılabilir diğer büyük avantajı vardır.

Deneysel çalışmalar, düzensiz Ti-6Al-4V toz 1.85 g/cm3 belirgin yoğunluğu ve 50-150 µm ortalama büyüklüğü ile yatırma malzemesi (şekil 1) olarak istihdam edildi. Her iki durumda da oksijen içeriği Ti-6Al-4V toz için standart oksijen içeriği daha yüksek iken toz oksijen ve azot içeriği ifade işleminden önce ve sonra değişmedi toz kimyasal analizi doğruladı katkı imalat (< %0,13). Ancak, toplu bileşeninin oksijen ve azot...

Watch this Scientific Journal Video about Production of Single Tracks of Ti-6Al-4V by Directed Energy Deposition to Determine the Layer Thickness for Multilayer Deposition at JoVE.com

Production of Single Tracks of Ti-6Al-4V by Directed Energy Deposition to Determine the Layer Thickness for Multilayer Deposition

Bu araştırmada, hızlı bir yöntem eritebilir havuzu karakterizasyonu dayalı yönlendirilmiş enerji birikimi tarafından üretilen Ti-6Al-4V bileşenleri katman kalınlığı tahmin etmek için geliştirilmiştir.

Ti-6Al-4V tabakası kalınlığı çok katmanlı ifade vermek için gitmek belirlemek için yönlendirilmiş enerji birikimi tarafından tek parça imalatı

Directed Energy Deposition (DED), which is an additive manufacturing technique, involves the creation of a molten pool with a laser beam where metal ...

production-single-tracks-ti-6al-4v-directed-energy-deposition-to

Research

JoVE Journal

Engineering

9.1K Görüntüleme.  Politecnico di Torino. Bu araştırmada, hızlı bir yöntem eritebilir havuzu karakterizasyonu dayalı yönlendirilmiş enerji birikimi tarafından üretilen Ti-6Al-4V bileşenleri katman kalınlığı tahmin etmek için geliştirilmiştir.

Video: Production of Single Tracks of Ti-6Al-4V by Directed Energy Deposition to Determine the Layer Thickness for Multilayer Deposition

Harvesting Solar Energy by Means of Charge-Separating Nanocrystals and Their Solids

Conjoining different semiconductor materials in a single nano-composite provides synthetic means for the development of novel optoelectronic materials offering a superior control over the spatial distribution of charge carriers across material interfaces. As this study demonstrates, a combination of donor-acceptor nanocrystal (NC) domains in a single nanoparticle can lead to the realization of efficient photocatalytic1-5 materials, while a layered assembly of donor- and acceptor-like nanocrystals films gives rise to photovoltaic materials.
Initially the paper focuses on the synthesis of composite inorganic nanocrystals, comprising linearly stacked ZnSe, CdS, and Pt domains, which jointly promote photoinduced charge separation. These structures are used in aqueous solutions for the photocatalysis of water under solar radiation, resulting in the production of H2 gas. To enhance the photoinduced separation of charges, a nanorod morphology with a linear gradient originating from an intrinsic electric field is used5. The inter-domain energetics are then optimized to drive photogenerated electrons toward the Pt catalytic site while expelling the holes to the surface of ZnSe domains for sacrificial regeneration (via methanol). Here we show that the only efficient way to produce hydrogen is to use electron-donating ligands to passivate the surface states by tuning the energy level alignment at the semiconductor-ligand interface. Stable and efficient reduction of water is allowed by these ligands due to the fact that they fill vacancies in the valence band of the semiconductor domain, preventing energetic holes from degrading it. Specifically, we show that the energy of the hole is transferred to the ligand moiety, leaving the semiconductor domain functional. This enables us to return the entire nanocrystal-ligand system to a functional state, when the ligands are degraded, by simply adding fresh ligands to the system4.
To promote a photovoltaic charge separation, we use a composite two-layer solid of PbS and TiO2 films. In this configuration, photoinduced electrons are injected into TiO2 and are subsequently picked up by an FTO electrode, while holes are channeled to a Au electrode via PbS layer6. To develop the latter we introduce a Semiconductor Matrix Encapsulated Nanocrystal Arrays (SMENA) strategy, which allows bonding PbS NCs into the surrounding matrix of CdS semiconductor. As a result, fabricated solids exhibit excellent thermal stability, attributed to the heteroepitaxial structure of nanocrystal-matrix interfaces, and show compelling light-harvesting performance in prototype solar cells7.

A general strategy for the development of charge-separating semiconductor nanocrystal composites deployable for solar energy production is presented. We show that assembly of donor-acceptor nanocrystal domains in a single nanoparticle geometry gives rise to a photocatalytic function, while bulk-heterojunctions of donor-acceptor nanocrystal films can be used for photovoltaic energy conversion.

Şarj-Ayırma Nanokristaller ve Bunların Katılar Yoluyla Güneş Enerjisi Hasat

Conjoining different semiconductor materials in a single nano-composite provides synthetic means for the development of novel optoelectronic materials ...

Mühendislik

Fabrication of Nano-engineered Transparent Conducting Oxides by Pulsed Laser Deposition

Nanosecond Pulsed Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas allows the deposition of metal oxides with tunable morphology, structure, density and stoichiometry by a proper control of the plasma plume expansion dynamics. Such versatility can be exploited to produce nanostructured films from compact and dense to nanoporous characterized by a hierarchical assembly of nano-sized clusters. In particular we describe the detailed methodology to fabricate two types of Al-doped ZnO (AZO) films as transparent electrodes in photovoltaic devices: 1) at low O2 pressure, compact films with electrical conductivity and optical transparency close to the state of the art transparent conducting oxides (TCO) can be deposited at room temperature, to be compatible with thermally sensitive materials such as polymers used in organic photovoltaics (OPVs); 2) highly light scattering hierarchical structures resembling a forest of nano-trees are produced at higher pressures. Such structures show high Haze factor (&gt;80%) and may be exploited to enhance the light trapping capability. The method here described for AZO films can be applied to other metal oxides relevant for technological applications such as TiO2, Al2O3, WO3 and Ag4O4.

We describe the experimental method to deposit nanostructured oxide thin films by nanosecond Pulsed Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas. By using this method Al-doped ZnO (AZO) films, from compact to hierarchically structured as nano-tree forests, can be deposited.

Fabrikasyon Pulsed Lazer Biriktirme tarafından Transparent letken Oksitler Nano-mühendislik

Nanosecond Pulsed  Laser Deposition (PLD) in the presence of a background gas allows the deposition  of metal oxides with tunable morphology, structure, ...

Casting Protocols for the Production of Open Cell Aluminum Foams by the Replication Technique and the Effect on Porosity

Metal foams are interesting materials from both a fundamental understanding and practical applications point of view. Uses have been proposed, and in many cases validated experimentally, for light weight or impact energy absorbing structures, as high surface area heat exchangers or electrodes, as implants to the body, and many more. Although great progress has been made in understanding their structure-properties relationships, the large number of different processing techniques, each producing material with different characteristics and structure, means that understanding of the individual effects of all aspects of structure is not complete. The replication process, where molten metal is infiltrated between grains of a removable preform material, allows a markedly high degree of control and has been used to good effect to elucidate some of these relationships. Nevertheless, the process has many steps that are dependent on individual &#8220;know-how&#8221;, and this paper aims to provide a detailed description of all stages of one embodiment of this processing method, using materials and equipment that would be relatively easy to set up in a research environment. The goal of this protocol and its variants is to produce metal foams in an effective and simple way, giving the possibility to tailor the outcome of the samples by modifying certain steps within the process. By following this, open cell aluminum foams with pore sizes of 1&#8211;2.36 mm diameter and 61% to 77% porosity can be obtained.

Replication is one of the processing techniques used for the production of porous metal sponges. In this paper one implementation of the method for the production of open celled porous aluminum is shown in detail.

Çoğaltma Tekniği açın Hücre Alüminyum Köpüklerin Üretimi ve Porosity&#39;sinden Üzerindeki Etki için Protokolleri Döküm

Metal foams are interesting materials from both a fundamental understanding and practical applications point of view. Uses have been proposed, and in many ...

Making Record-efficiency SnS Solar Cells by Thermal Evaporation and Atomic Layer Deposition

Tin sulfide (SnS) is a candidate absorber material for Earth-abundant, non-toxic solar cells. SnS offers easy phase control and rapid growth by congruent thermal evaporation, and it absorbs visible light strongly. However, for a long time the record power conversion efficiency of SnS solar cells remained below 2%. Recently we demonstrated new certified record efficiencies of 4.36% using SnS deposited by atomic layer deposition, and 3.88% using thermal evaporation. Here the fabrication procedure for these record solar cells is described, and the statistical distribution of the fabrication process is reported. The standard deviation of efficiency measured on a single substrate is typically over 0.5%. All steps including substrate selection and cleaning, Mo sputtering for the rear contact (cathode), SnS deposition, annealing, surface passivation, Zn(O,S) buffer layer selection and deposition, transparent conductor (anode) deposition, and metallization are described. On each substrate we fabricate 11 individual devices, each with active area 0.25 cm2. Further, a system for high throughput measurements of current-voltage curves under simulated solar light, and external quantum efficiency measurement with variable light bias is described. With this system we are able to measure full data sets on all 11 devices in an automated manner and in minimal time. These results illustrate the value of studying large sample sets, rather than focusing narrowly on the highest performing devices. Large data sets help us to distinguish and remedy individual loss mechanisms affecting our devices.

Tin sulfide (SnS) is a candidate material for Earth-abundant, non-toxic solar cells. Here, we demonstrate the fabrication procedure of the SnS solar cells employing atomic layer deposition, which yields 4.36% certified power conversion efficiency, and thermal evaporation which yields 3.88%.

Termal Buharlaşma ve Atomik katman Biriktirme tarafından Record-verimlilik SNS Güneş Pilleri yapma

Tin sulfide (SnS) is a candidate absorber material for Earth-abundant, non-toxic solar cells. SnS offers easy phase control and rapid growth by congruent ...

Formation of Thick Dense Yttrium Iron Garnet Films Using Aerosol Deposition

Aerosol deposition (AD) is a thick-film deposition process that can produce layers up to several hundred micrometers thick with densities greater than 95% of the bulk. The primary advantage of AD is that the deposition takes place entirely at ambient temperature; thereby enabling film growth in material systems with disparate melting temperatures. This report describes in detail the processing steps for preparing the powder and for performing AD using the custom-built system. Representative characterization results are presented from scanning electron microscopy, profilometry, and ferromagnetic resonance for films grown in this system. As a representative overview of the capabilities of the system, focus is given to a sample produced following the described protocol and system setup. Results indicate that this system can successfully deposit 11 &#181;m thick yttrium iron garnet films that are &#160;&#62; 90% of the bulk density during a single 5 min deposition run. A discussion of methods to afford better control of the aerosol and particle selection for improved thickness and roughness variations in the film is provided.

This report describes the use of a custom-built system to perform aerosol deposition of thick films of yttrium iron garnet onto sapphire substrates at RT. The deposited films are characterized using scanning electron microscopy, profilometry, and ferromagnetic resonance to give a representative overview of the capabilities of the technique.

Aerosol Birikimi Kullanarak Kalın Yoğun Yttrium Iron Garnet Filmleri oluşumu

Aerosol deposition (AD) is a thick-film deposition process that can produce layers up to several hundred micrometers thick with densities greater than 95% ...

Synthesis and Characterization of High c-axis ZnO Thin Film by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition System and its UV Photodetector Application

In this study, zinc oxide (ZnO) thin films with high c-axis (0002) preferential orientation have been successfully and effectively synthesized onto silicon (Si) substrates via different synthesized temperatures by using plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system. The effects of different synthesized temperatures on the crystal structure, surface morphologies and optical properties have been investigated. The X-ray diffraction (XRD) patterns indicated that the intensity of (0002) diffraction peak became stronger with increasing synthesized temperature until 400 oC. The diffraction intensity of (0002) peak gradually became weaker accompanying with appearance of (10-10) diffraction peak as the synthesized temperature up to excess of 400 oC. The RT photoluminescence (PL) spectra exhibited a strong near-band-edge (NBE) emission observed at around 375 nm and a negligible deep-level (DL) emission located at around 575 nm under high c-axis ZnO thin films. Field emission scanning electron microscopy (FE-SEM) images revealed the homogeneous surface and with small grain size distribution. The ZnO thin films have also been synthesized onto glass substrates under the same parameters for measuring the transmittance.
For the purpose of ultraviolet (UV) photodetector application, the interdigitated platinum (Pt) thin film (thickness ~100 nm) fabricated via conventional optical lithography process and radio frequency (RF) magnetron sputtering. In order to reach Ohmic contact, the device was annealed in argon circumstances at 450 oC by rapid thermal annealing (RTA) system for 10 min. After the systematic measurements, the current-voltage (I-V) curve of photo and dark current and time-dependent photocurrent response results exhibited a good responsivity and reliability, indicating that the high c-axis ZnO thin film is a suitable sensing layer for UV photodetector application.

We offered a method to directly synthesize high c-axis (0002) ZnO thin film by plasma enhanced chemical vapor deposition. The as-synthesized ZnO thin film combined with Pt interdigitated electrode was used as sensing layer for ultraviolet photodetector, showing a high performance through a combination of its good responsivity and reliability.

Sentezi ve Plazma ile yüksek c-ekseni ZnO İnce Film Karakterizasyonu CVD Sistemi ve UV Fotodetektör Uygulaması Enhanced

In this study, zinc oxide (ZnO) thin films with high c-axis (0002) preferential orientation have been successfully and effectively synthesized onto ...

Integration of Light Trapping Silver Nanostructures in Hydrogenated Microcrystalline Silicon Solar Cells by Transfer Printing

One of the potential applications of metal nanostructures is light trapping in solar cells, where unique optical properties of nanosized metals, commonly known as plasmonic effects, play an important role. Research in this field has, however, been impeded owing to the difficulty of fabricating devices containing the desired functional metal nanostructures. In order to provide a viable strategy to this issue, we herein show a transfer printing-based approach that allows the quick and low-cost integration of designed metal nanostructures with a variety of device architectures, including solar cells. Nanopillar poly(dimethylsiloxane) (PDMS) stamps were fabricated from a commercially available nanohole plastic film as a master mold. On this nanopatterned PDMS stamps, Ag films were deposited, which were then transfer-printed onto block copolymer (binding layer)-coated hydrogenated microcrystalline Si (&#181;c-Si:H) surface to afford ordered Ag nanodisk structures. It was confirmed that the resulting Ag nanodisk-incorporated &#181;c-Si:H solar cells show higher performances compared to a cell without the transfer-printed Ag nanodisks, thanks to plasmonic light trapping effect derived from the Ag nanodisks. Because of the simplicity and versatility, further device application would also be feasible thorough this approach.

A viable transfer printing-based methodology to introduce plasmonic metal nanostructures in solar cells is described. Using nanopillar poly(dimethylsiloxane) stamps, an Ag-based ordered nanodisk array was integrated with standard hydrogenated microcrystalline Si solar cells, which led to improved device performances due to plasmonic light trapping.

Transfer Baskı ile Hidrojene Mikrokristal Silikon Güneş Pilleri Işık Yakalama Gümüş Nanoyapıların Entegrasyonu

One of the potential applications of metal nanostructures is light trapping in solar cells, where unique optical properties of nanosized metals, commonly ...

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two chalcogenide compositions are demonstrated: Ge23Sb7S70 and As40S60, which have both been studied extensively for planar mid-infrared (mid-IR) microphotonic devices. In this approach, uniform thickness films are fabricated through the use of computer numerical controlled (CNC) motion. Chalcogenide glass (ChG) is written over the substrate by a single nozzle along a serpentine path. Films were subjected to a series of heat treatments between 100 &#176;C and 200 &#176;C under vacuum to drive off residual solvent and densify the films. Based on transmission Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy and surface roughness measurements, both compositions were found to be suitable for the fabrication of planar devices operating in the mid-IR region. Residual solvent removal was found to be much quicker for the As40S60 film as compared to Ge23Sb7S70. Based on the advantages of electrospray, direct printing of a gradient refractive index (GRIN) mid-IR transparent coating is envisioned, given the difference in refractive index of the two compositions in this study.

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

A method of uniform thickness solution-derived chalcogenide glass film deposition is demonstrated using computer numerical controlled motion of a single-nozzle electrospray.

Düzgün kalınlığı Ge Elektro Biriktirme<sub&gt; 23</sub&gt; Sb<sub&gt; 7</sub&gt; S<sub&gt; 70</sub&gt; Ve de<sub&gt; 40</sub&gt; S<sub&gt; 60</sub&gt; Chalcogenide Cam Filmleri

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two ...

High Temperature Fabrication of Nanostructured Yttria-Stabilized-Zirconia (YSZ) Scaffolds by In Situ Carbon Templating Xerogels

We demonstrate a method for the high temperature fabrication of porous, nanostructured yttria-stabilized-zirconia (YSZ, 8 mol% yttria - 92 mol% zirconia) scaffolds with tunable specific surface areas up to 80 m2&#183;g-1. An aqueous solution of a zirconium salt, yttrium salt, and glucose is mixed with propylene oxide (PO) to form a gel. The gel is dried under ambient conditions to form a xerogel. The xerogel is pressed into pellets and then sintered in an argon atmosphere. During sintering, a YSZ ceramic phase forms and the organic components decompose, leaving behind amorphous carbon. The carbon formed in situ serves as a hard template, preserving a high surface area YSZ nanomorphology at sintering temperature. The carbon is subsequently removed by oxidation in air at low temperature, resulting in a porous, nanostructured YSZ scaffold. The concentration of the carbon template and the final scaffold surface area can be systematically tuned by varying the glucose concentration in the gel synthesis. The carbon template concentration was quantified using thermogravimetric analysis (TGA), the surface area and pore size distribution was determined by physical adsorption measurements, and the morphology was characterized using scanning electron microscopy (SEM). Phase purity and crystallite size was determined using X-ray diffraction (XRD). This fabrication approach provides a novel, flexible platform for realizing unprecedented scaffold surface areas and nanomorphologies for ceramic-based electrochemical energy conversion applications, e.g. solid oxide fuel cell (SOFC) electrodes.

High Temperature Fabrication of Nanostructured Yttria-Stabilized-Zirconia YSZ Scaffolds by In Situ Carbon Templating Xerogels

A protocol for fabricating porous, nanostructured yttria-stabilized-zirconia (YSZ) scaffolds at temperatures between 1,000 &#176;C and 1,400 &#176;C is presented.

tarafından Nano yapılı yitriya stabilize-Zirkonyum (YSZ) iskelelerinin Yüksek Sıcaklık Fabrikasyon<em&gt; Situ</em&gt; Karbon şablonu Kserojeller

We demonstrate a method for the high temperature fabrication of porous, nanostructured yttria-stabilized-zirconia (YSZ, 8 mol% yttria - 92 mol% zirconia) ...

Fabrication of Ultra-thin Color Films with Highly Absorbing Media Using Oblique Angle Deposition

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present an advanced method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics. The proposed process addresses several fabrication issues, including large area processing. Specifically, the protocol describes a process for fabricating ultra-thin color films using an electron beam evaporator for oblique angle deposition of germanium (Ge) and gold (Au) on silicon (Si) substrates.&#160; Film porosity produced by the oblique angle deposition induces color changes in the ultra-thin film. The degree of color change depends on factors such as deposition angle and film thickness. Fabricated samples of the ultra-thin color films showed improved color tunability and color purity. In addition, the measured reflectance of the fabricated samples was converted into chromatic values and analyzed in terms of color. Our ultra-thin film fabricating method is expected to be used for various ultra-thin film applications such as flexible color electrodes, thin film solar cells, and optical filters. Also, the process developed here for analyzing the color of the fabricated samples is broadly useful for studying various color structures.

We present a detailed method for fabricating ultra-thin color films with improved characteristics for optical coatings. The oblique angle deposition technique using an electron beam evaporator allows improved color tunability and purity. Fabricated films of Ge and Au on Si substrates were analyzed by reflectance measurements and color information conversion.

Eğik açısı ifade kullanarak medya yüksek emici ile Ultra ince renk filmleri imalatı

Ultra-thin film structures have been studied extensively for use as optical coatings, but performance and fabrication challenges remain.&#160; We present ...