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14.11 : 원자 방출 분광학: 간섭

원자 방출 분광법(AES)에서 고온 분무기는 화염이나 플라즈마 내 산화물, 수산화물, 화염 연소 생성물과 같은 소스로부터 복잡한 방출을 생성하는 광범위한 원소와 분자를 여기시킵니다. 방출선이나 대역의 중첩으로 인해 발생하는 스펙트럼 간섭을 최소화하기 위해 여러 가지 전략을 사용할 수 있습니다. 여기에는 기기 해상도 증가, 대체 방출선 선택, 배경이 낮은 영역에 검출기를 최적으로 배치 또는 배경 보정 기술 적용이 포함됩니다.

화학적 간섭은 분석 물질과 불꽃의 다른 화학종이 반응하여 해리되지 않는 안정적인 화합물을 형성하고 분석 물질 신호를 변경할 때 발생합니다. 이러한 화학적 간섭은 더 높은 온도나 간섭 물질과 선택적으로 반응하여 분석물을 방출하는 방출제를 사용하여 제거하거나 완화할 수 있습니다. 플라즈마 소스에는 이온화 간섭을 상쇄하는 데 도움이 되는 풍부한 전자가 포함되어 있습니다. 시료와 표준물질에 쉽게 이온화할 수 있는 원소를 도입하면 화학적 간섭에 대응하고 감도가 향상됩니다.

유기 용매는 더 높은 화염 온도, 더 빠른 공급 속도 및 에어로졸의 작은 물방울로 인해 스펙트럼 선 강도를 향상시킵니다. 그러나 염분, 산 및 기타 용해된 종은 방출 강도를 저하시킬 수 있으므로 신중한 표본/표준 일치가 필요합니다. 더 적은 종만이 플라즈마에서 안정적으로 유지되어 무기 음이온, 유기 용매 및 기타 용해된 종의 간섭을 줄입니다.

또한, 외부 화염 영역의 바닥 상태 분석 원자는 화염 중심의 여기 원자에 의해 방출되는 방사선을 흡수하여 방출 강도를 감소시킬 수 있습니다. 그러나 경로 길이가 더 짧고 온도가 더 균일하기 때문에 플라즈마에서는 이러한 현상이 발생할 가능성이 적습니다.

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Atomic Emission SpectroscopyAESSpectral InterferencesEmission LinesBackground CorrectionChemical InterferencesFlame CombustionPlasma SourcesIonization InterferenceSensitivity ImprovementOrganic SolventsEmission IntensitySample Matching

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