Contact ohmique fabrication utilisant une technique Focused Ion Beam-et caractérisation électrique pour la couche semi-conducteurs Nanostructures

12.2K Views

08:12 min

December 5th, 2015

DOI :

10.3791/53200-v

December 5th, 2015


Explorer plus de vidéos

Ing nierie

Chapitres dans cette vidéo

0:05

Title

0:57

Exfoliation of MoSe2 Layer Nanocrystals

2:01

Dispersion of the Layer Nanocrystals onto the Device Template

2:42

Electrode Fabrication by Focused-ion Beam

6:14

Results: Characteristics of Ohmic Contacts

7:33

Conclusion

Vidéos Associées

article

10:54

Conception, fabrication et expérimentale Caractérisation des plasmoniques émetteurs térahertz Photoconductive

14.8K Views

article

09:19

Fabrication et caractérisation des polymères désordonnés fibres optiques pour Transverse localisation d'Anderson de la lumière

11.3K Views

article

06:43

Écrit et à basse température Caractérisation des nanostructures d'oxyde

9.9K Views

article

08:19

Patterning par Transitions Optical saturable - Fabrication et caractérisation

6.8K Views

article

11:10

Fabrication et fonctionnement d'un Convoyeur Nano-optique

11.5K Views

article

14:58

Silicium métal-oxyde-semiconducteur Quantum Dots pour le pompage mono-électronique

14.3K Views

article

12:37

Phase Schéma Caractérisation utilisant des billes magnétiques comme supports liquides

12.2K Views

article

11:14

Caractérisation complète des défauts étendus dans les matériaux semi-conducteurs par un microscope électronique à balayage

13.5K Views

article

10:58

Fabrication de faisceau ionique focalisé de Lithium-ion à l’état solide axée sur les LiPON micro-batterie pour In Situ essais

10.0K Views

article

11:21

Fabrication de la pression atmosphérique de grande taille simple couche rectangulaire SnSe flocons

8.0K Views

JoVE Logo

Confidentialité

Conditions d'utilisation

Politiques

Recherche

Enseignement

À PROPOS DE JoVE

Copyright © 2025 MyJoVE Corporation. Tous droits réservés.