1. 샘플 준비

1. 샘플을 샘플 스텁에 놓습니다. 필요한 경우, 탄소 테이프는 샘플을 스텁에 접착제로 결합하는 데 사용될 수 있다.
2. 샘플을 골드 스퍼터링 시스템에 넣습니다. 미니 골드 스퍼터를 사용하여 스퍼터 골드를 ~ 70 mTorr 압력에서 30 초 동안. 샘플의 형상에 따라 다른 금층 두께가 필요할 수 있다. 더 거친 또는 다공성 표면은 더 긴 스퍼터링 시간이 필요합니다.
3. 골드 스퍼터링 시스템에서 스텁을 제거합니다.

2. 샘플 삽입 및 SEM 시작

1. 챔버가 명목 압력에 도달 할 수 있도록 SEM 챔버를 배출합니다.
2. SEM 샘플 구획을 열고 샘플 스테이지를 꺼냅니다.
3. 샘플을 포함하는 샘플 스텁을 스테이지에 삽입합니다. 스텁을 제자리에 조이십시오.
4. z-거리를 소프트웨어에 의해 제어할 수 없는 경우 샘플 스텁이 있는 샘플 스테이지에 더 나은 이미지를 얻기 위해 적절한 높이가 있는지 확인합니다.
5. 샘플 스테이지를 샘플 챔버에 넣습니다. 샘플 구획을 닫습니다.
6. 펌프를 켜고 시스템이 진공 상태에 도달할 수 있도록 합니다. 시스템이 완료되면 사용자에게 알립니다.
7. SEM 소프트웨어를 엽니다. 1-30 kV에 이르는 원하는 작동 전압을 선택합니다. 작동 전압이 높을수록 이미지 대비가 향상되지만 샘플에 충전이 누적되면 해상도가 낮아질 수 있습니다.

3. SEM 이미지 캡처

1. 키 아이콘을 클릭하여 SEM 소프트웨어에서 '자동 초점'을 시작합니다. 이렇게 하면 시작점으로 사용할 샘플의 집중된 이미지를 얻을 수 있습니다.
2. 배율이 최소 줌 레벨인 50X로 설정되어 있는지 확인합니다.
3. '빠른 스캔' 모드를 선택합니다.
4. 거친 초점이 얻을 때까지 거친 모드에서 초점을 조정합니다.
5. 관심 영역이 디스플레이에 표시되도록 외부 노브를 사용하여 수동으로 스테이지를 조정합니다.
6. 원하는 피쳐가 관찰될 때까지 배율 수준을 늘립니다. 거친 초점 손잡이를 조정하여 이 배율에 이미지를 대략 집중시합니다. 그런 다음, 미세 초점 노브를 사용하여 초점을 개선하여 원하는 배율 수준에서 집중된 이미지를 얻습니다. 배율 수준이 증가할 때마다 이 단계가 반복됩니다.
7. 원하는 배율에 도달하면 미세 초점 손잡이를 조정하여 선명도를 향상시킵니다.
8. 이미지 선명도를 최적화하려면 배율을 최대 수준에 가깝게 늘린 다음 미세 초점 노브를 사용하여 이미지에 초점을 맞춥니다. 선명한 이미지를 얻을 수 없는 경우 x 및 y 방향으로 낙인을 조정합니다. 가장 선명한 이미지가 과장된 배율 수준에서 얻을 때까지 초점과 낙인을 계속 조정하십시오.
9. 샘플의 품질 이미지에 도달한 후 원하는 배율 수준으로 돌아갑니다. 이미지는 '느린 사진' 또는 '빠른 사진' 모드에서 사진 버튼을 눌러 촬영할 수 있습니다. '느린 사진' 모드는 이미지의 품질과 고해상도를 제공합니다.

4. SEM 소프트웨어를 사용하여 측정하기

1. '패널' 드롭다운 목록에서 'M. 도구'를 선택합니다.
2. 길이, 면적 및 각도와 같은 다양한 측정은 SEM 소프트웨어에서 직접 측정할 수 있습니다. 이러한 측정 중 하나를 수행하려면 M. Tools 창에서 원하는 아이콘을 클릭합니다.
3. SEM 이미지의 측정 사이트로 스크롤합니다. 측정은 이미지를 클릭하여 소프트웨어에서 분석할 참조 지점을 만들어 측정합니다. 측정된 데이터 포인트는 사용자가 원하는 경우 이미지에 직접 삽입할 수 있습니다.
4. 그런 다음 이미지가 컴퓨터에 저장됩니다.