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  • Protocolo
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  • Discusión
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  • Agradecimientos
  • Materiales
  • Referencias
  • Reimpresiones y Permisos

Resumen

Aquí, presentamos un protocolo para la fabricación de poliedros 3D basados en el grafeno mediante origami-como uno mismo-plegable.

Resumen

El montaje de dos dimensiones (2D) grafeno en tridimensionales (3D) estructuras poliédricas preservando excelentes propiedades inherentes de grafeno ha sido de gran interés para el desarrollo de aplicaciones para nuevos dispositivos. Aquí, fabricación de 3D, microescala, hueco de poliedros (cubos) que consiste en unas pocas capas de grafeno 2D o grafeno óxido hojas a través de un proceso de auto-plegado origami-como se describe. Este método implica el uso de marcos del polímero y las bisagras y capas de protección de óxido de aluminio/cromo que reducen la resistencia a la tracción, espacial y tensión superficial de tensiones en las membranas de grafeno basado cuando las redes 2D se transforman en cubos 3D. El proceso ofrece control del tamaño y la forma de las estructuras así como producción paralela. Además, este enfoque permite la creación de modificaciones superficiales de metal dibujos en cada cara de los cubos 3D. Estudios de Espectroscopía Raman muestran que el método permite la preservación de las propiedades intrínsecas de las membranas basadas en grafeno, demostrando la robustez de nuestro método.

Introducción

Dos dimensiones (2D) graphene hojas poseen extraordinarias propiedades ópticas, electrónicas y mecánicas, que modelo de sistemas para la observación de fenómenos de quantum novela de última generación electrónicos, optoelectrónicos, electroquímica, aplicaciones electromecánicas y biomédica1,2,3,4,5,6. Recientemente, aparte de la estructura capas 2D como producción del grafeno, se han investigado diversos planteamientos de modificación para observar nuevas funcionalidades de grafeno y buscar nuevas oportunidades de aplicación. Por ejemplo, modulación (o ajuste) sus propiedades físicas (es decir, doping nivel o banda gap) adaptando las formas o patrones del 2D de la estructura unidimensional (1D) o estructura (0 D) cero-dimensional (e.g., grafeno nanoribbon o grafeno puntos cuánticos) ha sido estudiado para obtener nuevos fenómenos físicos incluyendo efectos de confinamiento cuántico, modos plasmónica localizados, distribución de electrones localizados y polarización de spin edge Estados7,8 ,9,10,11,12. Además, variando la textura del grafeno 2D arrugándose (a menudo llamado kirigami), delaminación, pandeo, torsión, o apilamiento de múltiples capas, o cambiando la forma superficial de grafeno mediante la transferencia de grafeno 2D en la parte superior una característica 3D (sustrato) ha sido demostrado para cambiar la mojabilidad del grafeno, características mecánicas y propiedades ópticas13,14.

Más allá de cambiar la morfología superficial y la estructura en capas de grafeno 2D, montaje de grafeno 2D en funcionalizados, bien definidos, tridimensionales (3D) poliedros ha sido de gran interés recientemente en la comunidad de grafeno para obtener la nueva física y fenómenos químicos15. En teoría, elástica, electrostática y van der Waals se pueden aprovechar las energías de estructuras 2D basados en grafeno para transformar el grafeno 2D en 3D origami de grafeno varias configuraciones de16,17. Partiendo de este concepto, estudios de Modelización teórica han investigado grafeno 3D diseños de estructura, formados a partir de las membranas de grafeno 2D a nanoescala, con posibles aplicaciones en el suministro de medicamentos y almacenamiento molecular general16,17. Sin embargo, los avances experimentales de este enfoque es aún muy lejos de darse cuenta de estas aplicaciones. Por otro lado, se han desarrollado varios métodos de síntesis química para lograr estructuras 3D a través de ayuda de plantilla Asamblea dirigido por flujo, emulgente Asamblea y crecimiento conformal métodos18,19 , 20 , 21 , 22. sin embargo, estos métodos son actualmente limitados en que no producen una estructura 3D, hueco, cerrada sin perder las propiedades intrínsecas de las hojas de grafeno.

Aquí, se describe una estrategia para la construcción de microcubes 3D, hueco, basada en el grafeno (dimensión total de ~ 200 μm) usando origami-como uno mismo-plegables; superación de los retos más importantes en la construcción de materiales libre de pie, hueco, 3D, poliédricos, basados en grafeno. En origami-como manos libres auto plegables técnicas, características planos litográfico modelados 2D (es decir, las membranas basadas en grafeno) son conectadas con bisagras (es decir, polímeros de termal-sensible, fotoresistencia) en varias articulaciones, de tal modo formación 2D redes que doblar para arriba cuando las bisagras se calientan para derretir temperatura23,24,25,26. Los cubos basados en grafeno se realizan con componentes de la membrana de ventana compuesto por unas pocas capas de deposición de vapor químico (CVD) crecido grafeno o membranas de grafeno óxido (ir); ambos con el uso de marcos del polímero y las bisagras. La fabricación de los cubos 3D basados en grafeno implica: (i) preparación de capas de protección, (ii) membrana de grafeno transferencia y patrones, (iii) superficie patrones en membranas de grafeno, (iv) marco y bisagras de patrones y la deposición, (v). uno plegable y (vi) eliminación de las capas de protección (figura 1). Este artículo se centra sobre todo en los aspectos auto plegables de la fabricación de cubos 3D basados en grafeno. Detalles sobre propiedades físicas y ópticas de los cubos 3D basados en el grafeno se pueden encontrar en nuestras otras recientes publicaciones27,28.

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Protocolo

Atención: Varios de los productos químicos utilizados en estas síntesis son tóxicos y pueden causar irritación y daño severo del órgano cuando toca o inhalado. Utilice equipo de seguridad apropiado y usar equipo de protección personal al manipular los productos químicos.

1. preparación de óxido de aluminio y capas de protección de cromo en una capa Sacrificial cobre

  1. Utilizando un evaporador de haz de electrones, depositar 10 nm espesor de cromo (Cr) y 300 nm espesor cobre (Cu) de las capas (capa de sacrificio) en el substrato de silicio (Si) (Figura 2a).
  2. Capa de vuelta una fotoresistencia (PR) -1 a 2500 rpm seguido de horneado a 115 ° C por 60 s.
  3. Exponer las áreas netas 2D diseñadas a la luz ultravioleta (UV) en un alineador de contacto de la máscara durante 15 s y desarrollar por 60 s en la solución de revelador-1. Enjuague la muestra con agua desionizada (DI) y secar con una pistola de aire.
  4. 10 nm espesor capa de Cr y despegue de lo restantes acetona PR - 1 en el depósito. Enjuague la muestra con agua desionizada y seque con una pistola de aire (figura 2b).
  5. A patrón 2D redes con seis cuadrados protección /Cr de Al2O3capas en la red, spin-capa 2D un PR 1 a 2500 rpm seguido de horneado a 115 ° C durante 60 s.
  6. Exponer las capas de protección cuadrados seis diseñado a la luz UV en un alineador de contacto de la máscara durante 15 s y desarrollar por 60 s en la solución de revelador-1. Enjuague la muestra con agua desionizada y seque con una pistola de aire.
  7. Depositar un 100 nm Al2O3 capa gruesa y capa Cr gruesa de 10 nm. Eliminar acetona PR - 1 en resto. Enjuague la muestra con agua desionizada y seque con una pistola de aire (figura 2C).

2. preparación de membranas de oxido de grafeno y grafeno

Nota: En este estudio, se utilizan dos tipos de materiales basados en grafeno: deposición de vapor (i) químico (CVD) crecido grafeno y óxido de grafeno (ii) (ir).

  1. Preparación de membranas de grafeno de múltiples capas CVD
    Nota: Para obtener membranas de múltiples capas de grafeno, una capa de grafeno se transfiere tres veces separadas con múltiples pasos de recubrimiento/extracción de polimetil metacrilato (PMMA).
    1. A partir de una pieza cuadrada de ~ 15 m m de grafeno se adhirieron en hoja del Cu, spin-capa una capa delgada de PMMA en 3000 rpm en la superficie del grafeno. Hornear a 180 ° C durante 10 minutos.
    2. Coloque la hoja de grafeno/PMMA/Cu capas de hoja flotante Cu-lado abajo en Cu grabador por 24 h grabar a la hoja del Cu.
    3. Después de la Cu aluminio se haya disuelto completamente (dejando PMMA/grafeno), transferir el grafeno recubierto de PMMA flotante sobre la superficie de una piscina de agua DI usando un microscopio portaobjetos de vidrio para eliminar cualquier residuo de grabador Cu. Repita varias veces, el traspaso del grafeno recubierto de PMMA en piscinas de agua de nuevo DI enjuagar adecuadamente.
    4. Transferencia el grafeno recubierto de PMMA flotante sobre otro pedazo de grafeno se adhirieron en hoja del Cu (grafeno/Cu) para obtener una membrana de grafeno bicapa (formando una estructura de hoja PMMA/grafeno/grafeno/Cu).
    5. Tratar térmicamente el grafeno bicapa en el Cu de hoja en un plato caliente a 100 ° C durante 10 minutos.
    6. Quitar el PMMA en la parte superior del grafeno bicapa en el Cu de la hoja en un baño de acetona (dejando una pila de capas de papel de grafeno/grafeno/Cu), seguido por la transferencia al agua de DI.
    7. Repetir la transferencia de grafeno (2.1.1 - 2.1.5) una vez más para obtener tres capas apiladas de las membranas de grafeno. Cuando paso 2.1.4 se alcanza durante el proceso de repetición, en lugar de transferir la nueva hoja de grafeno recubierto de PMMA en otra pieza de grafeno/Cu, transferir el nuevo grafeno recubierto de PMMA en la doble capa de grafeno fabricado previamente de paso 2.1.6 para formar una combinación de capa de la hoja PMMA/grafeno/grafeno/grafeno/Cu. A continuación, repita el paso 2.1.5 sin modificación.
    8. Coloque la hoja PMMA/grafeno/grafeno/grafeno/Cu capas de hoja flotante Cu-lado abajo en Cu grabador por 24 h grabar a la hoja del Cu.
    9. Transferir las capas tres de PMMA revestido de las membranas de grafeno (PMMA, grafeno, grafeno/grafeno) en el prefabricado Al2O3/Cr protección capas de sección 1.
    10. Después de la transferencia del grafeno, retire el PMMA con acetona. Luego, sumergir la muestra en agua desionizada y secar en aire.
    11. Tratar térmicamente el grafeno de múltiples capas en el sustrato en un plato caliente a 100 ° C durante 1 hora.
    12. Spin-capa PR-1 en 2500 rpm y cocer a 115 ° c durante 60 s.
    13. UV expone las regiones de PR-1 directamente sobre las zonas de la capa de protección cuadrados mediante un alineador de contacto de la máscara durante 15 s y desarrollar por 60 s en la solución de revelador-1.
    14. Quitar la recién descubierta, no deseados grafeno áreas mediante un tratamiento plasma de oxígeno durante 15 s.
    15. Retire el sobrante PR-1 en acetona.
    16. La muestra con agua desionizada y seque en el aire (Figura 2d).
  2. Preparación de membranas de óxido de grafeno
    Nota: Fotolitografía tradicional seguida por una despegue proceso mediante inundación exposición se utiliza para las membranas GO del patrón.
    1. Spin-coat PR-2 a 1700 rpm por 60 s en la cima de las previamente fabricado Al2O3/Cr protección capas para obtener una capa gruesa de 10 μm. Cueza al horno la PR-2 a 115 ° C por 60 s y luego espere 3 h.
    2. Con la misma máscara utilizada para patrones de la capa de protección de Al2O3/Cr UV exponer la muestra en un alineador de contacto de la máscara de 80 s y desarrollar por 90 s en la solución de revelador-2. Enjuague la muestra con agua desionizada y seque con una pistola de aire.
    3. Realizar una exposicion inundación de toda la muestra sin una máscara para 80 s.
    4. Spin-capa el ir preparado y mezcla de agua (15 mg de polvo de ir en 15 mL de agua desionizada) de la muestra a 1000 rpm por 60 s. realizar la capa de vuelta un total de 3 veces.
    5. Sumergir la muestra en solución de revelador-2 para permitir el despegue de GO no deseado.
    6. Enjuague la muestra con agua desionizada y secar cuidadosamente la muestra con una pistola de aire.
    7. Tratar térmicamente la muestra sobre una placa caliente a 100 ° C por 1 h (figura 2 h).

3. metal patrón superficial en las membranas de grafeno

Nota: Un común proceso de fotolitografía se llevó a cabo para alcanzar el patrón superficial mediante un alineador de máscara contacto UV y evaporador de haz de electrones (ver 1.2-1.4).

  1. Crear patrones de espesor titanio (Ti) de 20 nm sobre las membranas con motivos basados en grafeno.
  2. Tratar térmicamente la muestra sobre una placa caliente a 100 ° C por 1 h (figura 2e de grafeno) y figura 2i para ir.

4. fabricación de polímero Marcos y bisagras

  1. En la parte superior las membranas basadas en grafeno con Ti superficie patrones, spin-capa PR-3 a 2500 rpm por 60 s para formar una capa gruesa de 5 μm y hornear a 90 ° C por 2 min.
  2. UV exponer las muestras a 20 s, hornear a 90 ° C por 3 min y desarrollar por 90 s en la solución de revelador-3.
  3. Enjuague la muestra con agua desionizada y alcohol isopropílico (IPA) y secar cuidadosamente la muestra con una pistola de aire.
  4. Después de hornear las muestras a 200 ° C durante 15 min mejorar la rigidez mecánica de los marcos (PR-3) (figura 2f de grafeno) y figura 2j para ir.
  5. Para hacer el patrón de la bisagra, spin-coat PR-2 a 1000 rpm por 60 s para formar una película gruesa de 10 μm en la parte superior del sustrato prefabricado. Cocer a 115 ° c por 60 s y espere 3 h.
  6. UV exponer la muestra en un alineador de contacto de la máscara de 80 s y desarrollar por 90 s en la solución de revelador-2.
  7. Enjuague la muestra con agua desionizada y secar cuidadosamente la muestra con una pistola de aire (figura 2 g de grafeno) y figura 2 k para ir.

5. auto plegable en agua desionizada

Nota: Cuando las bisagras de la PR-2 se derritan (o refusión), se genera una fuerza de tensión superficial; por lo tanto, las estructuras 2D se transforman en estructuras 3D (un proceso auto plegable).

  1. Para liberar la estructura 2D, disolver la capa sacrificial Cu bajo las redes 2D en un grabador de Cu (figura 2 l).
  2. Transferir la estructura liberada en un baño de agua DI utilizando una pipeta y enjuague algunas veces para quitar el grabador Cu residual.
  3. Estructura de lugar el 2D en agua desionizada había calentada por encima del punto de fusión del polímero (PR-2) bisagras (figura 2 m).
  4. Controlar el auto plegable en tiempo real a través de microscopía óptica y retire la fuente de calor en exitosa asamblea en cubos cerrados.

6. eliminación de las capas de protección

  1. Después de plegar uno, quitar las capas de protección /Cr de Al2O3con grabador Cr (figura 2n).
  2. Transferir suavemente los cubos en baño de agua DI y enjuague cuidadosamente.

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Resultados

La figura 2 muestra las imágenes ópticas de los procesos litográficos del grafeno 2D y las estructuras de GO red y posterior proceso auto plegable. El proceso de plegado automático se monitorea en tiempo real a través de un microscopio de alta resolución. Ambos tipos de cubos 3D basados en el grafeno se doblan a ~ 80 ° C. Figura 3 establece secuencias de vídeo capturadas con el plegamiento automático de cubos 3D...

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Discusión

Para los cubos fabricados con grafeno de ECV, porque cada cara de un cubo dado está diseñado con un marco externo que rodea un área de2 ~ 160 × 160 μm de grafeno independiente, una sola hoja de grafeno monocapa no tiene la fuerza necesaria para permitir procesamiento en paralelo de los cubos. Por esta razón, las membranas de grafeno que consta de tres capas de monocapa de grafeno CVD hojas son producen mediante tres transferencias del grafeno separadas con múltiples pasos de la capa/extracción...

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Divulgaciones

Los autores no tienen nada que revelar.

Agradecimientos

Este material está basado en trabajo apoyado por un fondo de puesta en marcha en la Universidad de Minnesota, ciudades gemelas y un premio de la carrera de NSF (CMMI-1454293). Partes de este trabajo se llevaron a cabo en las instalaciones de la caracterización de la Universidad de Minnesota, miembro de la NSF-financiado materiales instalaciones red de investigación (através del programa MRSEC. Porciones de este trabajo se llevaron a cabo en el centro de Nano de Minnesota, que es apoyado por la National Science Foundation a través de la nacional Nano coordinada infraestructura red (NNCI) bajo la concesión número ECCS-1542202. C. D. reconoce apoyo de la 3 M ciencia y tecnología becas.

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Materiales

NameCompanyCatalog NumberComments
AcetoneFisher ChemicalA18P-4N/A
Aluminium oxideKurt J. Lesker CompanyEVMALO-1-2.599.99% Pure
APS Copper Etchant 100Transene Company, Inc.N/AN/A
Camera (for 3D image)NikonD51001080p Full HD, Effective pixels: 16.2 million, Sensorsize: 23.6 mm x 15.6 mm
CE-5 M Chromium Mask EtchantTransene Company, Inc.N/AN/A
Chemical deposition growth (CVD) systemCustomizedN/ALindberg/Blue Tube Furnace
ChromiumKurt J. Lesker CompanyEVMCR35J99.95% pure
Chromium Etchant 473Transene Company, Inc.N/AN/A
CopperKurt J. Lesker CompanyEVMCU40QXQJ99.99% pure
Developer-1 (MF319 developer)Microposit10018042N/A
Developer-2 (AZ developer)Merck performance Materials Corp.1005422496N/A
Developer-3 (SU-8 developer)MicroChemNC9901158N/A
Digital Hot PlateThermo ScientificHP131725Super-Nuvoa series, maximum temperature: 370 °C
E-Beam Evaporator SystemRocky Mountain Vacuum Tech.N/ARME-2000
Graphene oxideGoographeneN/APurity: ~ 99%; Single layer ratio: ~99%;  0.7-1.2 nm in thickness.
Isopropyl AlcoholFisher ChemicalA416-4N/A
Mask AlignerMidasMDA-400LJN/A
MicroscopeOmaxNJF-120AN/A
multiple polymethyl methacrylate (PMMA)MicroChem950 PMMA A9N/A
Oxygen plasma Technics Inc.SERIES 800Microscale reactive ion etching (RIE)
Photoresist-1 (S1813 Photoresist)Microposit10018348N/A
Photoresist-2 (SPR220 Photoresist)MicroChemSPR00220-7GN/A
Photoresist-3 (SU-8 Photoresist)MicroChemSU-8-2010N/A
ProfilometerTencor InstrumentsN/AAlpha-Step 200
RamanWITec Instruments Corp.Alpha300RConfocal Raman Microscope
Silicon WaferSiltronic AGN/A100mm diameter, N-type, one-side polish, resitivity: 560-840 Ω•cm
SpinnerBest ToolsS0114031123SMART COATER 100
TitaniumKurt J. Lesker CompanyEVMTI45QXQA99.99% Pure
Ultrasonic CleanerCrest UltrasonicsN/APowersonic series

Referencias

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