In Situ SIMS e IR Spettroscopia di superfici ben definite Preparato da atterraggio morbido di ioni Mass-selezionati

18.0K Views

10:22 min

June 16th, 2014

DOI :

10.3791/51344-v

June 16th, 2014


Esplora Altri Video

Chimica

Capitoli in questo video

0:05

Title

2:13

Mounting of COOH-SAM Surfaces on Gold for Soft Landing of Mass-selected Ions

3:07

Soft Landing of Mass-selected Ru(bpy)32+ onto COOH-SAM Surfaces

4:17

Analysis by In Situ TOF-SIMS Before and After Exposure to Reactive Gases

5:59

Analysis by In Situ FT-ICR-SIMS and IRRAS During and After Soft Landing

7:28

Results: Characterization of Organometallic Ions Soft Landed onto COOH-SAMs by In Situ SIMS and IR Spectroscopy

9:39

Conclusion

Video correlati

article

07:32

Dinamica elettrochimica Misura di cloruro di ioni

11.3K Views

article

09:48

In Situ Caratterizzazione di idrate proteine ​​in acqua da Salvi e TOF-SIMS

8.2K Views

article

07:37

TiO

9.9K Views

article

09:56

In Situ Caratterizzazione di Shewanella oneidensis MR1 biofilm di SALVI e ToF-SIMS

8.9K Views

article

09:28

Fabbricazione e collaudo di aerogel catalitico preparato tramite rapida estrazione supercritica

7.2K Views

article

07:30

Segnale Nanosonda rapido aumento di sintesi di nanoparticelle di oro In Situ

7.5K Views

article

09:36

In Situ litiati riferimento elettrodo: Elettrodo quattro Design per spettroscopia di impedenza nel operando

8.6K Views

article

07:55

Elementale-sensibile alla rilevazione della chimica in batterie attraverso la spettroscopia di assorbimento di raggi x molli e risonante Inelastic x-ray Scattering

12.5K Views

article

07:00

Accumulazione e l'analisi di ioni rameosi in un solfato di rame in soluzione di placcatura

14.7K Views

article

07:53

Analisi delle molecole complesse e delle loro reazioni sulle superfici mediante mezzi di desorpazione/spettrometria di massa indotta da cluster

7.0K Views

JoVE Logo

Riservatezza

Condizioni di utilizzo

Politiche

Ricerca

Didattica

CHI SIAMO

Copyright © 2025 MyJoVE Corporation. Tutti i diritti riservati