형광계와 분광형광계는 분자 형광을 측정하는 데 사용되는 두 가지 유형의 계측기입니다. 이러한 계측기는 여기 및 방출 파장을 선택하는 방법과 사용하는 광원 유형이 다릅니다. 형광계는 흡수 간섭 필터를 사용하여 여기 및 방출 파장을 선택합니다. 형광계의 여기 소스는 일반적으로 자외선 및 가시광선 영역 전체에 분포된 강렬한 선을 방출하는 저압 수은 증기 램프입니다. 형광계는 정량적 작업에 적합하고 형광 강도를 측정할 수 있지만 여기 또는 방출 스펙트럼을 기록할 수 없습니다.
반면, 분광형광계는 단색기를 사용하여 여기 및 방출 파장을 선택합니다. 이러한 계측기는 고압 제논 아크 램프를 여기 소스로 사용하여 연속 방출 스펙트럼을 생성합니다. 분광형광계는 여기 또는 방출 스펙트럼을 기록하여 보다 자세한 형광 분석을 수행할 수 있습니다. 또한 정량적 측정에도 적합합니다.
분자 인광의 경우, 인광과 형광을 구별하기 위해 인광 측정기라고 알려진 특수 계측기가 필요합니다. 인광은 형광보다 수명이 길기 때문에 여기와 인광 방출 측정 사이에 지연이 통합됩니다. 이는 위상이 다른 두 개의 초퍼를 사용하여 달성할 수 있습니다. 초퍼는 여기 소스가 표본에 초점을 맞출 때 형광 방출을 차단하고 인광 방출을 측정할 때 여기 소스를 차단합니다. 외부 변환에 의한 여기 상태의 비활성화를 방지하기 위해, 에너지가 빛으로 방출되는 대신 용매 또는 표본 매트릭스로 전달되는 무방사 완화의 한 형태인 인광 측정용 표본은 일반적으로 적합한 유기 용매에 용해되어 액체 질소 온도에서 동결됩니다. 이렇게 하면 외부 변환을 최소화하는 광학적으로 투명한 고체 매트릭스가 형성됩니다. 또는 표본을 고체 기질에 고정하여 실온에서 인광을 측정할 수 있습니다.
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