Este trabalho foi financiado em parte através da NSF, NSFDMI-0508454 / LEQSF (2006)-Pfund-53, a NSF-CMMI-0811888, e NSF-CMMI-0900595 subvenções.

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	<li>Menon, R. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/entrez/query.fcgi?db=PubMed&cmd=Search&doptcmdl=Citation&defaultField=Title+Word&term=Conducting+polymers:+Nobel+Prize+in+Chemistry,+2000.">Conducting polymers: Nobel Prize in Chemistry, 2000.</a> Current Science. 79, 1632 (2000).</li><li>Inzelt, G., Pineri, M., Schultze, J. W., Vorotyntsev, M. 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Não há conflitos de interesse declarados.

Solução de problemas: Os pontos críticos em relação a geração de micropadrões simples e múltiplas camadas de polímeros condutores e metais usando a operação de &quot;corte&quot;: (1) Temperatura de relevo garante a fluidez da camada de PMMA intermediário que gera os melhores resultados. É aconselhável para iniciar no limite inferior do intervalo e aumentar a temperatura gradualmente se os resultados desejados não são alcançados. Demasiado alta temperatura pode causar a camada de polím...

<table border="1"><tbody><tr><td> Nome do reagente </td><td> Companhia </td><td> Número de catálogo </td><td> Comentários </td></tr><tr><td> PMMA </td><td> Sigma-Aldrich Co. </td><td> 495C9 </td><td> O solvente é cholorobenzene. Lidar com solução PMMA sob uma coifa com ventilação adequada. Não respirar o vapor. Consulte a MSDS para obter instruções de manuseio seguro. </td></tr><tr><td> PPy </td><td> Sigma-Aldrich Co. </td><td> - </td><td> 5% em peso em água. Utilizados como recebidos. </td></tr><tr><td> PEDOT-PSS </td><td> HC Starck Co. </td><td> Baytron P HC V4 </td><td> Proprietário solvente. Utilizados como recebidos. </td></tr><tr><td> Spani </td><td> Sigma-Aldrich Co. </td><td> - </td><td> Forma solúvel em água. Utilizados como recebidos. </td></tr><tr><td> Máquina de estampagem a quente </td><td> JenoptikMikrotechnik Co. </td><td> HEX 01/LT </td><td></td></tr><tr><td> Sputter máquina </td><td> Cressington Co. </td><td> 208HR </td><td></td></tr><tr><td> Máquina FIB </td><td> Zeiss Co. </td><td> FIB Crossbeam 1540 XB </td><td></td></tr><tr><td> Giro coater </td><td> Headway Reseach Co. </td><td> PWM32-PS-R790 Sistema Spinner </td><td></td></tr><tr><td> Máquina RIE </td><td> Technics MicroRIE Co. </td><td> - </td><td></td></tr><tr><td> Fotossensíveis </td><td> Shipley Co. </td><td> S1813 </td><td></td></tr><tr><td> PDMS </td><td> A Dow Corning </td><td> Sylgard 184 kit de elastômero de silicone </td><td></td></tr><tr><td> Folha de PEAD </td><td> EUA Plastic Incorpore </td><td> - </td><td></td></tr><tr><td> PMMA folha </td><td> Cyro Co. </td><td> - </td><td></td></tr><tr><td> Double-sided adhesivfita e </td><td> Scotch Co. </td><td> - </td><td></td></tr><tr><td> Single-sided fita </td><td> Delphon Co. </td><td> Ultratape # 1310 </td><td></td></tr><tr><td> Micropipetas de vidro </td><td> FHC Co. </td><td> 30-30-1 </td><td></td></tr><tr><td> Clipe </td><td> Office Depot Co. </td><td> Bulldog clipe </td><td></td></tr><tr><td> Umidificador </td><td> Vicks Co. </td><td> Umidificador de filtro sem </td><td></td></tr></tbody></table>

micropunching lithography for generating micro- and submicron-patterns on polymer substrates

Os polímeros condutores têm atraído grande atenção desde a descoberta da alta condutividade em poliacetileno dopado em 1977 1. Eles oferecem as vantagens de baixo peso, costura fácil de propriedades e um amplo espectro de aplicações de 2,3. Devido à sensibilidade dos polímeros condutores às condições ambientais (por exemplo, ar, as soluções de oxigénio, humidade, temperatura elevada e química), técnicas litográficas apresentar desafios significativos técnicas quando se trabalha com estes 4 materiais. Por exemplo, os actuais métodos de fotolitografia, tais como ultra-violeta (UV), são inadequados para padronização dos polímeros condutores, devido ao envolvimento dos molhado e / ou seca processos de corrosão nesses métodos. Além disso, os actuais micro / nanosistemas principalmente têm uma forma plana 5,6. Uma camada de estruturas é construído sobre as superfícies de topo de uma outra camada de características fabricadas. As camadas múltiplas de estas estruturas são empilhados em conjunto para formar numerosos dispositivos emum substrato comum. As superfícies de parede lateral do microestruturas não têm sido usados ​​em dispositivos de construção. Por outro lado, os padrões de parede lateral pode ser usado, por exemplo, para construir 3-D circuitos, modificar canais fluídicos e crescimento directo horizontal de nanofios e nanotubos. Um método macropunching tem sido aplicado na indústria de fabrico para criar macropatterns em uma chapa de metal por mais de cem anos. Motivado por esta abordagem, temos desenvolvido um método de litografia micropunching (MPL) para superar os obstáculos da padronização polímeros condutores e gerar padrões de paredes laterais. Como o método macropunching, o MPL também inclui duas operações (Fig. 1): (i) de corte, e (ii) de desenho. A operação de &quot;corte&quot; foi aplicada ao padrão de três polímeros condutores 4, de polipirrol (PPy), poli (3,4-ethylenedioxythiophen)-poli (4-styrenesulphonate) (PEDOT) e polianilina (PANI). Ele também foi usado para criar microestruturas al 7. As microestruturas fabricadas de polímeros condutores têm sido utilizados como humidade 8, 8 química, e glucose sensores 9. Microestruturas combinados de Al e polímeros condutores têm sido empregadas para fabricar capacitores e heterojunções vários 9,10,11. A operação de &quot;corte&quot;, também foi aplicado para gerar submicrométricas-padrões, como o 100 - e 500-nm de largura linhas PPy, bem como fios 100-nm de largura Au. O &quot;desenho&quot; operação foi empregue para duas aplicações: (i) produzir padrões Au de parede lateral em polietileno de alta densidade (HDPE) canais que podem ser utilizados para a construção de 3D ​​microssistemas 12,13,14, e (ii) fabricar polidimetilsiloxano (PDMS) micropillars em substratos de HDPE para aumentar o ângulo de contacto do canal 15.

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Micropunching Lithography for Generating Micro- and Submicron-patterns on Polymer Substrates

Uma abordagem litografia micropunching é desenvolvido para gerar micro e submicron-padrões na parte superior, lateral e superfícies inferiores de polímero substratos. Ela supera os obstáculos da padronização polímeros condutores e gerar padrões de paredes laterais. Este método permite a fabricação rápida de várias características e é livre de química agressiva.

Micropunching Litografia de Geração de Micro e submicrométricas-padrões sobre substratos poliméricos

Conducting polymers have attracted great attention since the discovery of high conductivity in doped polyacetylene in 19771. They offer the advantages of ...

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15.0K visualizações.  University of Texas at Arlington. Uma abordagem litografia micropunching é desenvolvido para gerar micro e submicron-padrões na parte superior, lateral e superfícies inferiores de polímero substratos. Ela supera os obstáculos da padronização polímeros condutores e gerar padrões de paredes laterais. Este método permite a fabricação rápida de várias características e é livre de química agressiva.